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ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ シーエムピー ホウルディングス インコーポレイテッド
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第886位 33件
（
2018年：第993位 27件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第1210位 15件
（2018年：第1700位 10件）
（ランキング更新日：2025年3月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ シーエムピー ホウルディングス インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2019-537244 | タングステンのためのケミカルメカニカルポリッシング法 | 2019年12月19日 | |
| 特表 2019-537245 | タングステンのためのケミカルメカニカルポリッシング法 | 2019年12月19日 | |
| 特表 2019-537246 | タングステンのための化学機械研磨法 | 2019年12月19日 | |
| 特表 2019-537277 | 第四級ホスホニウム化合物を含有する方法及び組成物を使用したタングステンの化学機械研磨 | 2019年12月19日 | |
| 特開 2019-197887 | タングステン用の化学機械研磨方法 | 2019年11月14日 | |
| 特開 2019-195040 | 多目的の複合窓を有する研磨パッド | 2019年11月 7日 | |
| 特開 2019-163457 | 欠陥抑制を向上させた研磨組成物及び基板の研磨方法 | 2019年 9月26日 | |
| 特開 2019-143119 | ポリシリコン研磨用の低ディッシングシリカ粒子の水性組成物 | 2019年 8月29日 | |
| 特開 2019-145779 | パッド摩耗インジケータを有する研磨パッド | 2019年 8月29日 | |
| 特開 2019-110286 | コバルト用ケミカルメカニカルポリッシング方法 | 2019年 7月 4日 | |
| 特開 2019-106539 | トリメチルスルホキソニウムカチオンを有するシリカを含有するＣＭＰスラリー組成物 | 2019年 6月27日 | |
| 特開 2019-98512 | アミン開始ポリオール含有硬化剤からの高除去速度ケミカルメカニカルポリッシングパッド | 2019年 6月24日 | |
| 特開 2019-89193 | ＣＭＰ研磨パッドのための高いＵＶ透過率を有する脂肪族ＵＶ硬化ポリウレタン光学的終点検出窓 | 2019年 6月13日 | |
| 特表 2019-513297 | 基板を化学機械研磨する方法 | 2019年 5月23日 | |
| 特表 2019-512876 | 半導体基材をケミカルメカニカル研磨する方法 | 2019年 5月16日 |
33 件中 1-15 件を表示
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2019-537244 2019-537245 2019-537246 2019-537277 2019-197887 2019-195040 2019-163457 2019-143119 2019-145779 2019-110286 2019-106539 2019-98512 2019-89193 2019-513297 2019-512876
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