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ローム　アンド　ハース　エレクトロニック　マテリアルズ　シーエムピー　ホウルディングス　インコーポレイテッド

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ローム　アンド　ハース　エレクトロニック　マテリアルズ　シーエムピー　ホウルディングス　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2019-537277	第四級ホスホニウム化合物を含有する方法及び組成物を使用したタングステンの化学機械研磨	2019年12月19日
特表 2019-537246	タングステンのための化学機械研磨法	2019年12月19日
特表 2019-537245	タングステンのためのケミカルメカニカルポリッシング法	2019年12月19日
特表 2019-537244	タングステンのためのケミカルメカニカルポリッシング法	2019年12月19日
特開 2019-197887	タングステン用の化学機械研磨方法	2019年11月14日
特開 2019-195040	多目的の複合窓を有する研磨パッド	2019年11月 7日
特開 2019-163457	欠陥抑制を向上させた研磨組成物及び基板の研磨方法	2019年 9月26日
特開 2019-145779	パッド摩耗インジケータを有する研磨パッド	2019年 8月29日
特開 2019-143119	ポリシリコン研磨用の低ディッシングシリカ粒子の水性組成物	2019年 8月29日
特開 2019-110286	コバルト用ケミカルメカニカルポリッシング方法	2019年 7月 4日
特開 2019-106539	トリメチルスルホキソニウムカチオンを有するシリカを含有するＣＭＰスラリー組成物	2019年 6月27日
特開 2019-98512	アミン開始ポリオール含有硬化剤からの高除去速度ケミカルメカニカルポリッシングパッド	2019年 6月24日
特開 2019-89193	ＣＭＰ研磨パッドのための高いＵＶ透過率を有する脂肪族ＵＶ硬化ポリウレタン光学的終点検出窓	2019年 6月13日
特表 2019-513297	基板を化学機械研磨する方法	2019年 5月23日
特表 2019-512876	半導体基材をケミカルメカニカル研磨する方法	2019年 5月16日

33 件中 1-15 件を表示

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2019-537277 2019-537246 2019-537245 2019-537244 2019-197887 2019-195040 2019-163457 2019-145779 2019-143119 2019-110286 2019-106539 2019-98512 2019-89193 2019-513297 2019-512876

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