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日産化学工業株式会社
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第217位 201件
（
2017年：第115位 442件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第199位 150件
（
2017年：第222位 137件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日産化学工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6327483 | 複素環アミド化合物 | 2018年 5月23日 | |
| 特許 6327484 | ポリ酸を含むメタル含有レジスト下層膜形成組成物 | 2018年 5月23日 | |
| 特許 6328882 | プラズマアニール方法及びその装置 | 2018年 5月23日 | |
| 特許 6323677 | 乳化安定性に優れる農薬乳化性組成物 | 2018年 5月16日 | |
| 特許 6319292 | 組成物及び単層塗布型水平配向フィルム | 2018年 5月 9日 | |
| 特許 6319295 | 組成物、液晶配向処理剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2018年 5月 9日 | |
| 特許 6319304 | 培地組成物及び当該培地組成物を用いた赤血球の製造方法 | 2018年 5月 9日 | |
| 特許 6319580 | スルホン酸オニウム塩を含有するケイ素含有ＥＵＶレジスト下層膜形成組成物 | 2018年 5月 9日 | |
| 特許 6319581 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2018年 5月 9日 | |
| 特許 6319582 | リソグラフィー用レジスト上層膜形成組成物及びそれを用いた半導体装置の製造方法 | 2018年 5月 9日 | |
| 特許 6319596 | 高耐擦傷性インプリント材料 | 2018年 5月 9日 | |
| 特許 6319606 | ＬＥＤ用封止材組成物 | 2018年 5月 9日 | |
| 特許 6314827 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2018年 4月25日 | |
| 特許 6315204 | ネガ型感光性樹脂組成物 | 2018年 4月25日 | |
| 特許 6315205 | エポキシ化合物の製造方法 | 2018年 4月25日 |
163 件中 106-120 件を表示
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6327483 6327484 6328882 6323677 6319292 6319295 6319304 6319580 6319581 6319582 6319596 6319606 6314827 6315204 6315205
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