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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第217位 201件
(2017年:第115位 442件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第199位 150件
(2017年:第222位 137件)
(ランキング更新日:2025年9月1日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6269986 | レジストパターンに塗布される塗布液及び反転パターンの形成方法 | 2018年 1月31日 | |
特許 6270152 | 培地組成物及び当該組成物を用いた細胞又は組織の培養方法 | 2018年 1月31日 | |
特許 6264570 | 非感光性樹脂組成物 | 2018年 1月24日 | |
特許 6264577 | 液晶配向処理剤、液晶配向膜および液晶表示素子 | 2018年 1月24日 | |
特許 6265497 | ヒドロゲル形成性組成物及びそれより作られるヒドロゲル | 2018年 1月24日 | |
特許 6265498 | ヒドロゲル形成性組成物及びそれより作られるヒドロゲル | 2018年 1月24日 | |
特許 6268089 | 液晶配向膜の製造方法 | 2018年 1月24日 | |
特許 6260740 | エネルギー貯蔵デバイス電極用アンダーコート箔 | 2018年 1月17日 | |
特許 6260790 | 配向材の製造方法、配向材、位相差材の製造方法および位相差材 | 2018年 1月17日 | |
特許 6260792 | 薄肉化されたガラス基板の製造方法 | 2018年 1月17日 | |
特許 6256679 | ディスプレイ基板用樹脂組成物 | 2018年 1月10日 | |
特許 6256719 | 水酸基を有するアリールスルホン酸塩含有レジスト下層膜形成組成物 | 2018年 1月10日 | |
特許 6258830 | マスクブランク、マスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法 | 2018年 1月10日 |
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6269986 6270152 6264570 6264577 6265497 6265498 6268089 6260740 6260790 6260792 6256679 6256719 6258830
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