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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第217位 201件
(2017年:第115位 442件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第199位 150件
(2017年:第222位 137件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6348984 | 液晶表示素子の製造方法 | 2018年 6月27日 | |
特許 6341372 | 金属酸化物半導体層形成用前駆体組成物、金属酸化物半導体層の製造方法 | 2018年 6月13日 | |
特許 6341380 | リソグラフィー用レジスト上層膜形成組成物及びそれを用いた半導体装置の製造方法 | 2018年 6月13日 | |
特許 6338048 | イミノスチルベンポリマー及びそれを含むレジスト下層膜形成組成物 | 2018年 6月 6日 | |
特許 6338061 | 低離型力性を有するインプリント材料 | 2018年 6月 6日 | |
特許 6330662 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2018年 5月30日 | |
特許 6330928 | オキシム置換アミド化合物及び有害生物防除剤 | 2018年 5月30日 | |
特許 6331026 | 含フッ素高分岐ポリマー及びそれを含む不飽和ポリエステル樹脂組成物 | 2018年 5月30日 | |
特許 6331028 | 液晶配向処理剤、液晶配向膜および液晶表示素子 | 2018年 5月30日 | |
特許 6331037 | ディスプレイ基板用樹脂組成物、ディスプレイ基板用樹脂薄膜及びディスプレイ基板用樹脂薄膜の製造方法。 | 2018年 5月30日 | |
特許 6332034 | 架橋性アリールアミン組成物 | 2018年 5月30日 | |
特許 6332645 | ビスフェノールアルデヒドを用いたノボラック樹脂含有レジスト下層膜形成組成物 | 2018年 5月30日 | |
特許 6332646 | 活性エステル基を含有するシラン化合物とそれを用いた材料 | 2018年 5月30日 | |
特許 6334397 | 生体分子親和性高分岐ポリマー及び生体分子認識表面 | 2018年 5月30日 | |
特許 6327481 | レジスト下層膜形成組成物 | 2018年 5月23日 |
163 件中 91-105 件を表示
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6348984 6341372 6341380 6338048 6338061 6330662 6330928 6331026 6331028 6331037 6332034 6332645 6332646 6334397 6327481
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