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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第362位 82件 (2023年:第393位 85件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第181位 169件 (2023年:第199位 183件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2024-20421 | 細胞培養容器 | 2024年 2月14日 | |
特開 2024-16930 | 亜硝酸イオン含有量の測定方法 | 2024年 2月 8日 | |
特開 2024-19271 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子及びジアミン | 2024年 2月 8日 | |
特開 2024-15474 | 半導体基板の洗浄方法、加工された半導体基板の製造方法、及び、剥離及び溶解用組成物 | 2024年 2月 2日 | |
特開 2024-8588 | 高分子被覆した低誘電正接シリカゾル及びその製造方法 | 2024年 1月19日 | |
特開 2024-8719 | 光沢を失わずに着色する方法 | 2024年 1月19日 | |
特表 2024-502487 | 抗酸化剤を含む原油及びガス貯留層の地下注入用薬液 | 2024年 1月19日 | |
特開 2024-7369 | 液晶配向膜の製造方法、液晶表示素子の製造方法、液晶配向膜、及び液晶表示素子 | 2024年 1月18日 | |
特開 2024-5774 | 保存安定性に優れた塩素化イソシアヌル酸組成物 | 2024年 1月17日 | |
特開 2024-4449 | レジスト下層膜形成用組成物 | 2024年 1月16日 | |
特開 2024-3004 | 含フッ素アニリン誘導体 | 2024年 1月11日 | |
特開 2024-1159 | 細胞保存材料 | 2024年 1月 9日 | |
特開 2024-1185 | レジスト下層膜形成組成物、レジスト下層膜、レジストパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法 | 2024年 1月 9日 | |
特開 2024-1186 | レジスト下層膜形成組成物、レジスト下層膜、レジストパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法 | 2024年 1月 9日 |
89 件中 76-89 件を表示
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2024-20421 2024-16930 2024-19271 2024-15474 2024-8588 2024-8719 2024-502487 2024-7369 2024-5774 2024-4449 2024-3004 2024-1159 2024-1185 2024-1186
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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