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日産化学工業株式会社
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第441位 57件
（
2025年：第409位 76件）
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第173位 140件
（
2025年：第199位 155件）
（ランキング更新日：2026年10月23日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日産化学工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7862778 | 光導波路形成用組成物 | 2026年 5月20日 | |
| 特許 7861631 | レジスト下層膜形成組成物 | 2026年 5月19日 | |
| 特許 7861636 | 多重結合を有する膜形成組成物 | 2026年 5月19日 | |
| 特許 7861790 | シリコン含有レジスト下層膜形成用組成物 | 2026年 5月19日 | |
| 特許 7860458 | 剥離可能接着剤組成物、積層体及びその製造方法並びに積層体の剥離方法及び半導体形成基板を加工する方法 | 2026年 5月18日 | |
| 特許 7860469 | キレート剤を含む酸化物系基板の研磨用組成物 | 2026年 5月18日 | |
| 特許 7860544 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2026年 5月18日 | |
| 特許 7859440 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子、化合物、及び重合体 | 2026年 5月15日 | |
| 特許 7859567 | 薬液耐性保護膜 | 2026年 5月15日 | |
| 特許 7858545 | シリコン含有レジスト下層膜形成用組成物 | 2026年 5月14日 | |
| 特許 7856107 | レジスト下層膜形成組成物 | 2026年 5月11日 | |
| 特許 7853648 | 膜形成用組成物 | 2026年 4月30日 | |
| 特許 7853652 | シリコン含有レジスト下層膜形成用組成物 | 2026年 4月30日 | |
| 特許 7853654 | 炭素原子間の不飽和結合によるプラズマ硬化性化合物を含む段差基板被覆膜形成組成物 | 2026年 4月30日 | |
| 特許 7852249 | 複素環化合物を含むレジスト下層膜形成組成物 | 2026年 4月28日 |
146 件中 76-90 件を表示
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7862778 7861631 7861636 7861790 7860458 7860469 7860544 7859440 7859567 7858545 7856107 7853648 7853652 7853654 7852249
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