特許ランキング - 出願人詳細情報 -

日産化学工業株式会社

※ ログインすれば出願人(日産化学工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2025年出願公開件数ランキング　　　第419位　46件（2024年：第357位　92件）

　■　2025年特許取得件数ランキング　　　第199位　101件（2024年：第182位　187件）

（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

日産化学工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7652237	化合物	2025年 3月27日
特許 7648981	メラミンシアヌレート粒子を含む塗布用組成物	2025年 3月19日
特許 7647553	接着性細胞を浮遊培養するための培地組成物の製造方法	2025年 3月18日
特許 7647808	ジスルフィド構造を有するレジスト下層膜形成組成物	2025年 3月18日
特許 7647996	半導体製造用ウエハ端部保護膜形成用組成物	2025年 3月18日
特許 7646135	テラヘルツ波制御素子	2025年 3月17日
特許 7644406	半導体装置密着層形成用樹脂組成物	2025年 3月12日
特許 7643446	液晶配向剤、液晶配向膜、及び液晶表示素子	2025年 3月11日
特許 7643453	液晶配向剤、液晶配向膜、及び液晶表示素子	2025年 3月11日
特許 7640937	半導体基板の洗浄方法、加工された半導体基板の製造方法及び剥離用組成物	2025年 3月 6日
特許 7640938	半導体基板の洗浄方法、加工された半導体基板の製造方法及び剥離用組成物	2025年 3月 6日
特許 7640939	半導体基板の洗浄方法、加工された半導体基板の製造方法及び剥離用組成物	2025年 3月 6日
特許 7640940	半導体基板の洗浄方法、加工された半導体基板の製造方法及び剥離用組成物	2025年 3月 6日
特許 7640941	半導体基板の洗浄方法、加工された半導体基板の製造方法及び剥離用組成物	2025年 3月 6日
特許 7639985	アセタール構造を有する保護膜形成組成物	2025年 3月 5日

109 件中 61-75 件を表示

... 5

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

7652237 7648981 7647553 7647808 7647996 7646135 7644406 7643446 7643453 7640937 7640938 7640939 7640940 7640941 7639985

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。日産化学工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数