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日産化学工業株式会社

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 ■ 2026年 出願公開件数ランキング    第446位 57件 (下降2025年:第409位 76件)

 ■ 2026年 特許取得件数ランキング    第172位 145件 (上昇2025年:第199位 155件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7882272 シリコン含有レジスト下層膜形成用組成物、及びシリコン含有レジスト下層膜 2026年 6月30日
特許 7879536 二種のパーフルオロポリエーテルを含有する硬化性組成物 2026年 6月24日
特許 7878062 脂環式炭化水素基を有するポリマーを含むレジスト下層膜形成組成物 2026年 6月23日
特許 7875471 接着剤組成物、積層体、積層体の製造方法、及び半導体基板の製造方法 2026年 6月18日
特許 7875472 シリコン含有レジスト下層膜形成用組成物 2026年 6月18日
特許 7875473 疎水性有機溶媒分散シリカゾル及びその製造方法 2026年 6月18日
特許 7875474 接着剤組成物、積層体、及び加工された半導体基板の製造方法 2026年 6月18日
特許 7875477 表面処理シリカ含有無機酸化物粒子分散液及びその製造方法 2026年 6月18日
特許 7875491 CO2の鉱物化促進剤 2026年 6月18日
特許 7874397 塩類が除去されたポリシロキサンの製造方法 2026年 6月16日
特許 7871805 積層体、剥離剤組成物及び加工された半導体基板の製造方法 2026年 6月 9日
特許 7871806 パターン形成用組成物 2026年 6月 9日
特許 7871827 ヒドロキシケイ皮酸誘導体を有するレジスト下層膜形成用組成物 2026年 6月 9日
特許 7871865 アリールアミン化合物およびその利用 2026年 6月 9日
特許 7871927 液晶配向剤、液晶配向膜及びそれを用いた液晶表示素子 2026年 6月 9日

151 件中 61-75 件を表示

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7882272 7879536 7878062 7875471 7875472 7875473 7875474 7875477 7875491 7874397 7871805 7871806 7871827 7871865 7871927

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