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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第737位 39件
(2017年:第408位 103件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第533位 47件
(2017年:第496位 51件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6261980 | 皮膜の形成方法 | 2018年 1月17日 | |
特許 6262716 | 溶射用粉末、及び溶射皮膜の形成方法 | 2018年 1月17日 | |
特許 6259182 | ニッケルリンめっきが施された磁気ディスク基板の一次研磨用研磨液 | 2018年 1月10日 | |
特許 6259723 | シリコンウェーハの研磨方法、研磨用組成物および研磨用組成物セット | 2018年 1月10日 |
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6261980 6262716 6259182 6259723
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