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株式会社フジミインコーポレーテッド
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第583位 49件
（
2019年：第694位 42件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第488位 48件
（2019年：第729位 30件）
（ランキング更新日：2026年10月23日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社フジミインコーポレーテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6747838 | ブラスト材 | 2020年 8月26日 | |
| 特許 6741410 | 溶射用スラリー、溶射皮膜および溶射皮膜の形成方法 | 2020年 8月19日 | |
| 特許 6738619 | 溶射材およびその利用 | 2020年 8月12日 | |
| 特許 6734018 | 研磨材、研磨用組成物、及び研磨方法 | 2020年 8月 5日 | |
| 特許 6730859 | 研磨用組成物および磁気ディスク基板製造方法 | 2020年 7月29日 | |
| 特許 6730054 | ブラスト研磨用スラリ | 2020年 7月29日 | |
| 特許 6722006 | 溶射用材料、溶射皮膜および溶射皮膜付部材 | 2020年 7月15日 | |
| 特許 6722005 | 溶射用材料、溶射皮膜および溶射皮膜付部材 | 2020年 7月15日 | |
| 特許 6722004 | 溶射用材料、溶射皮膜および溶射皮膜付部材 | 2020年 7月15日 | |
| 特許 6719452 | 研磨用組成物 | 2020年 7月 8日 | |
| 特許 6706894 | 溶射材料 | 2020年 6月10日 | |
| 特許 6705757 | シリコンウェーハの研磨方法および表面処理組成物 | 2020年 6月 3日 | |
| 特許 6700855 | 研磨方法 | 2020年 5月27日 | |
| 特許 6697362 | 表面処理組成物、ならびにこれを用いた表面処理方法および半導体基板の製造方法 | 2020年 5月20日 | |
| 特許 6694745 | 研磨用組成物 | 2020年 5月20日 |
53 件中 16-30 件を表示
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6747838 6741410 6738619 6734018 6730859 6730054 6722006 6722005 6722004 6719452 6706894 6705757 6700855 6697362 6694745
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