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株式会社フジミインコーポレーテッド
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第518位 63件
（
2019年：第452位 81件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第488位 48件
（
2019年：第729位 30件）
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株式会社フジミインコーポレーテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6697362 | 表面処理組成物、ならびにこれを用いた表面処理方法および半導体基板の製造方法 | 2020年 5月20日 | |
| 特許 6691774 | 研磨用組成物およびその製造方法 | 2020年 5月13日 | |
| 特許 6693768 | 研磨方法 | 2020年 5月13日 | |
| 特許 6688129 | 研磨用組成物、磁気ディスク基板の製造方法および磁気ディスク基板の研磨方法 | 2020年 4月28日 | |
| 特許 6679386 | 研磨用組成物、基板の製造方法および研磨方法 | 2020年 4月15日 | |
| 特許 6680652 | 砥粒分散液、およびこれを含む研磨用組成物キット、ならびにこれらを用いた研磨用組成物の製造方法、研磨用組成物、研磨方法および磁気ディスク用基板の製造方法 | 2020年 4月15日 | |
| 特許 6681168 | 溶射用スラリー、溶射皮膜および溶射皮膜の形成方法 | 2020年 4月15日 | |
| 特許 6677558 | 磁気ディスク基板研磨用組成物、磁気ディスク基板の製造方法および研磨方法 | 2020年 4月 8日 | |
| 特許 6670587 | 研磨方法およびポリシング用組成物 | 2020年 3月25日 | |
| 特許 6670715 | 金属を含む層を有する研磨対象物の研磨に用いられる研磨用組成物 | 2020年 3月25日 | |
| 特許 6668024 | 溶射材料 | 2020年 3月18日 | |
| 特許 6656829 | 研磨用組成物 | 2020年 3月 4日 | |
| 特許 6656867 | 磁気ディスク基板用研磨組成物、磁気ディスク基板の製造方法および磁気ディスク基板 | 2020年 3月 4日 | |
| 特許 6656911 | 粉末積層造形に用いるための造形用材料 | 2020年 3月 4日 | |
| 特許 6660078 | リン酸チタン粉体の製造方法、化粧料用白色顔料 | 2020年 3月 4日 |
53 件中 31-45 件を表示
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6697362 6691774 6693768 6688129 6679386 6680652 6681168 6677558 6670587 6670715 6668024 6656829 6656867 6656911 6660078
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