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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第620位 38件
(
2025年:第554位 50件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第473位 44件
(
2025年:第375位 72件)
(ランキング更新日:2026年10月29日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2026-159433 | 研磨用組成物、基板の製造方法、および研磨システム | 2026年10月 7日 | |
| 特開 2026-157617 | 研磨パッドの寿命低下を抑制するスラリーおよびスラリーが研磨パッドに及ぼすダメージを評価する方法 | 2026年10月 7日 | |
| 特開 2026-155449 | 研磨用組成物および研磨方法 | 2026年10月 6日 | |
| 特開 2026-156152 | シリカゾルの製造方法およびシリカゾル | 2026年10月 6日 | |
| 特開 2026-155447 | 研磨用組成物および研磨方法 | 2026年10月 6日 | |
| 特開 2026-155444 | 研磨用組成物および研磨方法 | 2026年10月 6日 | |
| 特開 2026-155134 | 研磨用組成物および研磨方法 | 2026年10月 6日 | |
| 特開 2026-124842 | 研磨方法および研磨用組成物 | 2026年 7月31日 | |
| 特開 2026-63578 | ポリシングおよび洗浄方法、洗浄剤ならびに研磨洗浄用セット | 2026年 4月10日 | |
| 特開 2026-61479 | 研磨用組成物および研磨方法 | 2026年 4月 9日 | |
| 特開 2026-60144 | 研磨用組成物 | 2026年 4月 8日 | |
| 特開 2026-60143 | 研磨用組成物 | 2026年 4月 8日 | |
| 特開 2026-60184 | ポスト化学的機械的研磨洗浄組成物、ポスト化学的機械的研磨洗浄処理方法、および半導体基板の製造方法 | 2026年 4月 8日 | |
| 特開 2026-60598 | 研磨用組成物、基板の製造方法および研磨方法 | 2026年 4月 8日 | |
| 特開 2026-58990 | 研磨用組成物 | 2026年 4月 6日 |
38 件中 16-30 件を表示
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2026-159433 2026-157617 2026-155449 2026-156152 2026-155447 2026-155444 2026-155134 2026-124842 2026-63578 2026-61479 2026-60144 2026-60143 2026-60184 2026-60598 2026-58990
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MyTokkyo.Aiで何ができる? MyTokkyo.Ai導入検討者向け説明会|研究開発・知財のための基本機能と活用事例
11月6日(金) - 東京 港区
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