特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社フジミインコーポレーテッド

※ ログインすれば出願人(株式会社フジミインコーポレーテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第741位　32件（2023年：第725位　39件）

　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第494位　49件（2023年：第485位　57件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年

株式会社フジミインコーポレーテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2024-126825	研磨用組成物、研磨方法、半導体基板の製造方法、およびケイ素－窒素結合を有する研磨対象物の研磨速度の抑制剤	2024年 9月20日
特開 2024-125180	モリブデン研磨用組成物および方法	2024年 9月13日
特開 2024-124355	酸窒化ケイ素除去促進剤およびその使用方法	2024年 9月12日
特開 2024-110918	シリカゾル	2024年 8月16日
特開 2024-106963	研磨用組成物、研磨方法、および半導体基板の製造方法	2024年 8月 8日
特開 2024-106978	研磨用組成物、該研磨用組成物を用いた研磨方法および該研磨用組成物を用いた金型の製造方法	2024年 8月 8日
特開 2024-94876	研磨用組成物、研磨方法および半導体基板の製造方法	2024年 7月10日
特開 2024-92301	研磨用組成物、研磨方法、および半導体基板の製造方法	2024年 7月 8日
特開 2024-80610	研磨用組成物、研磨方法および半導体基板の製造方法	2024年 6月13日
特開 2024-49879	積層造形用粉末材料および該粉末材料の製造方法	2024年 4月10日
特開 2024-50224	研磨用組成物および磁気ディスク基板製造方法	2024年 4月10日
特開 2024-50389	表面処理組成物、表面処理方法、および半導体基板の製造方法	2024年 4月10日
特開 2024-48924	研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法、研磨方法、半導体基板の製造方法	2024年 4月 9日
特開 2024-18297	研磨用組成物、研磨方法、及び半導体基板の製造方法	2024年 2月 8日
特開 2024-16448	研磨用組成物	2024年 2月 7日

32 件中 16-30 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2024-126825 2024-125180 2024-124355 2024-110918 2024-106963 2024-106978 2024-94876 2024-92301 2024-80610 2024-49879 2024-50224 2024-50389 2024-48924 2024-18297 2024-16448

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社フジミインコーポレーテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数