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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第773位 33件
(
2023年:第725位 39件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第509位 52件
(
2023年:第485位 57件)
(ランキング更新日:2026年4月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2024-545014 | 炭化ケイ素表面用研磨用組成物及びその使用方法 | 2024年12月 5日 | |
| 特開 2024-145868 | 溶射用粉末 | 2024年10月15日 | |
| 特開 2024-145869 | 溶射用粉末 | 2024年10月15日 | |
| 特開 2024-145870 | 溶射用粉末 | 2024年10月15日 | |
| 特開 2024-146357 | 研磨用組成物および磁気ディスク基板製造方法 | 2024年10月15日 | |
| 特開 2024-143466 | 研磨用組成物、基板の製造方法および研磨方法 | 2024年10月11日 | |
| 特開 2024-143467 | 研磨用組成物、基板の製造方法および研磨方法 | 2024年10月11日 | |
| 特開 2024-143701 | 研磨用組成物及びその製造方法、研磨方法 | 2024年10月11日 | |
| 特開 2024-144139 | 表面処理組成物、表面処理方法、および半導体基板の製造方法 | 2024年10月11日 | |
| 特開 2024-141119 | 研磨用組成物、研磨方法および半導体基板の製造方法 | 2024年10月10日 | |
| 特開 2024-141139 | 研磨および洗浄方法、洗浄剤、ならびに研磨用組成物と洗浄剤とのセット | 2024年10月10日 | |
| 特開 2024-141600 | 研磨用組成物および研磨方法 | 2024年10月10日 | |
| 特開 2024-139651 | 研磨用組成物、研磨方法、および半導体基板の製造方法 | 2024年10月 9日 | |
| 特開 2024-134682 | 研磨用組成物 | 2024年10月 4日 | |
| 特開 2024-135558 | 研磨用組成物、研磨方法および半導体基板の製造方法 | 2024年10月 4日 |
33 件中 1-15 件を表示
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2024-545014 2024-145868 2024-145869 2024-145870 2024-146357 2024-143466 2024-143467 2024-143701 2024-144139 2024-141119 2024-141139 2024-141600 2024-139651 2024-134682 2024-135558
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