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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第458位 69件
(
2022年:第397位 84件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第341位 93件
(
2022年:第339位 89件)
(ランキング更新日:2025年10月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7294136 | 情報処理装置、情報処理システム、インソールの製造システム、インソールの製造方法、情報処理方法及びプログラム | 2023年 6月20日 | |
| 特許 7294341 | 感光性樹脂組成物、パターンを有する樹脂膜の製造方法、パターンを有する樹脂膜、および半導体回路基板 | 2023年 6月20日 | |
| 特許 7290194 | 半導体処理用組成物及び処理方法 | 2023年 6月13日 | |
| 特許 7290195 | 半導体処理用組成物及び処理方法 | 2023年 6月13日 | |
| 特許 7283300 | 感光性着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子 | 2023年 5月30日 | |
| 特許 7272198 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及びその製造方法並びに化合物 | 2023年 5月12日 | |
| 特許 7272364 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法、パターン形成方法並びに化合物及びその製造方法 | 2023年 5月12日 | |
| 特許 7268695 | 感放射線性組成物、硬化膜及びその製造方法、半導体素子並びに表示素子 | 2023年 5月 8日 | |
| 特許 7268770 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法 | 2023年 5月 8日 | |
| 特許 7255375 | 感放射線性組成物及びパターン形成方法 | 2023年 4月11日 | |
| 特許 7255589 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法並びにパターン形成方法 | 2023年 4月11日 | |
| 特許 7255600 | 光学フィルターおよびその用途 | 2023年 4月11日 | |
| 特許 7251423 | 光学部材及びカメラモジュール | 2023年 4月 4日 | |
| 特許 7251551 | 光学フィルターおよび環境光センサー | 2023年 4月 4日 | |
| 特許 7247732 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物 | 2023年 3月29日 |
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7294136 7294341 7290194 7290195 7283300 7272198 7272364 7268695 7268770 7255375 7255589 7255600 7251423 7251551 7247732
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