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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第458位 69件
(2022年:第397位 84件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第341位 93件
(2022年:第339位 89件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7247736 | 感放射線性組成物、表示装置用絶縁膜、表示装置、表示装置用絶縁膜の形成方法、及びシルセスキオキサン | 2023年 3月29日 | |
特許 7247788 | 基板処理方法、基板処理システム及び自己組織化材料 | 2023年 3月29日 | |
特許 7248173 | 光学フィルター及び光学フィルターを用いた固体撮像装置 | 2023年 3月29日 | |
特許 7243606 | 表示装置の製造方法、チップ部品の移設方法、および感放射線性組成物 | 2023年 3月22日 | |
特許 7230924 | 固体撮像素子 | 2023年 3月 1日 | |
特許 7229187 | 重合体組成物、硬化膜及び有機EL素子 | 2023年 2月27日 | |
特許 7226305 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 | 2023年 2月21日 | |
特許 7226336 | パターン形成方法 | 2023年 2月21日 | |
特許 7226434 | 重合体の製造方法 | 2023年 2月21日 | |
特許 7222399 | 装具 | 2023年 2月15日 | |
特許 7211298 | 洗浄用組成物及びその製造方法 | 2023年 1月24日 | |
特許 7207321 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法、パターニングされた基板の製造方法並びに化合物 | 2023年 1月18日 | |
特許 7207330 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法並びにパターニングされた基板の製造方法 | 2023年 1月18日 | |
特許 7207395 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | 2023年 1月18日 | |
特許 7205472 | 極端紫外線又は電子線リソグラフィー用金属含有膜形成組成物及びパターン形成方法 | 2023年 1月17日 |
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7247736 7247788 7248173 7243606 7230924 7229187 7226305 7226336 7226434 7222399 7211298 7207321 7207330 7207395 7205472
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