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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第37位 650件 (2023年:第39位 620件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第57位 458件 (2023年:第56位 543件)
(ランキング更新日:2025年1月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7491660 | 光学補償機能付き位相差板 | 2024年 5月28日 | |
特許 7491683 | III族窒化物積層基板および半導体発光素子 | 2024年 5月28日 | |
特許 7491741 | エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 | 2024年 5月28日 | |
特許 7490500 | ポリビニルアルコール除去装置及び偏光子の製造方法 | 2024年 5月27日 | |
特許 7490548 | 高分子化合物の製造方法 | 2024年 5月27日 | |
特許 7489767 | 非水電解液二次電池用セパレータの製造方法、非水電解液二次電池用部材の製造方法および非水電解液二次電池の製造方法 | 2024年 5月24日 | |
特許 7489818 | カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2024年 5月24日 | |
特許 7489819 | 非水電解液二次電池用積層セパレータの製造方法および非水電解液二次電池用積層セパレータ | 2024年 5月24日 | |
特許 7489867 | 偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルムの製造装置 | 2024年 5月24日 | |
特許 7489221 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2024年 5月23日 | |
特許 7489222 | カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2024年 5月23日 | |
特許 7489229 | 塩、クエンチャー、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2024年 5月23日 | |
特許 7489251 | 着色硬化性樹脂組成物、カラーフィルタ及び表示装置 | 2024年 5月23日 | |
特許 7489564 | 2-(5-シクロプロピル-3-(エチルスルホニル)ピリジン-2-イル)-5-((トリフルオロメチル)スルフィニル)ベンゾ[d]オキサゾールの結晶 | 2024年 5月23日 | |
特許 7489565 | 2-(5-シクロプロピル-3-(エチルスルホニル)ピリジン-2-イル)-5-((トリフルオロメチル)スルホニル)ベンゾ[d]オキサゾールの結晶 | 2024年 5月23日 |
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7491660 7491683 7491741 7490500 7490548 7489767 7489818 7489819 7489867 7489221 7489222 7489229 7489251 7489564 7489565
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1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
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1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月18日(土) -
1月14日(火) - 東京 港区
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