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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第497位 67件
(2014年:第514位 67件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第491位 50件
(2014年:第831位 35件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5782283 | 新規のポリマーおよびフォトレジスト組成物 | 2015年 9月24日 | |
特許 5769926 | フォトリソグラフィーのための組成物および方法 | 2015年 8月26日 | |
特許 5767794 | 抗置換硬質金組成物 | 2015年 8月19日 | |
特許 5763239 | 液浸リソグラフィーのための組成物および方法 | 2015年 8月12日 | |
特許 5756672 | 光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト | 2015年 7月29日 | |
特許 5753351 | 電子デバイスを形成する方法 | 2015年 7月22日 | |
特許 5753681 | フォトレジストおよびその使用方法 | 2015年 7月22日 | |
特許 5746824 | 上塗りフォトレジストと共に使用するのに好適なコーティング組成物 | 2015年 7月 8日 | |
特許 5739497 | 酸発生剤化合物およびそれを含むフォトレジスト | 2015年 6月24日 | |
特許 5734734 | 半導体上に電流トラックを形成する方法 | 2015年 6月17日 | |
特許 5735220 | 新規の樹脂およびこれを含むフォトレジスト組成物 | 2015年 6月17日 | |
特許 5731746 | 改良されたホットメルト組成物 | 2015年 6月10日 | |
特許 5731764 | 電子デバイスを形成する方法 | 2015年 6月10日 | |
特許 5733957 | 第3A族インク、並びにその製造方法および使用方法 | 2015年 6月10日 | |
特許 5719514 | 上塗りフォトレジストと共に使用するのに好適なコーティング組成物 | 2015年 5月20日 |
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5782283 5769926 5767794 5763239 5756672 5753351 5753681 5746824 5739497 5734734 5735220 5731746 5731764 5733957 5719514
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