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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第497位 67件
(2014年:第514位 67件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第491位 50件
(2014年:第831位 35件)
(ランキング更新日:2025年5月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2015-232176 | ジグリシジルエーテル末端ポリシロキサン化合物と非芳香族ポリアミンとのコポリマー | 2015年12月24日 | |
特開 2015-227327 | 複素環式窒素化合物、ポリエポキシドおよびポリハロゲンの反応生成物 | 2015年12月17日 | |
特開 2015-226064 | ナノ構造材料の方法および素子 | 2015年12月14日 | |
特開 2015-222435 | 下層組成物および下層を像形成する方法 | 2015年12月10日 | |
特開 2015-212363 | 接着促進剤 | 2015年11月26日 | |
特開 2015-212378 | 下層のための芳香族樹脂 | 2015年11月26日 | |
特開 2015-213168 | ドーパント含有ポリマー膜を用いた基体のドーピング | 2015年11月26日 | |
特開 2015-206794 | 電気めっき浴分析 | 2015年11月19日 | |
特開 2015-207768 | 半導体ウェハを清浄化しマイクロエッチングする方法 | 2015年11月19日 | |
特開 2015-180957 | オキシムスルホネートおよびN−オキシイミドスルホネート光感応性酸発生剤およびそれを含むフォトレジスト | 2015年10月15日 | |
特開 2015-179286 | フォトリソグラフィーの組成物および方法 | 2015年10月 8日 | |
特開 2015-172057 | 窒素含有化合物を含むフォトレジスト | 2015年10月 1日 | |
特開 2015-172752 | 電子デバイスを形成する方法 | 2015年10月 1日 | |
特開 2015-172761 | フォトレジストおよびその使用方法 | 2015年10月 1日 | |
特開 2015-163981 | 組成物およびフォトリソグラフィー方法 | 2015年 9月10日 |
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