ホーム > 特許ランキング > ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. > 2018年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2018年 出願公開件数ランキング 第476位 68件
(2017年:第579位 62件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第341位 83件
(2017年:第348位 80件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6286597 | 多重パターン形成方法 | 2018年 2月28日 | |
特許 6283477 | アミド成分を含むフォトレジスト | 2018年 2月21日 | |
特許 6278535 | イミダゾール化合物と、ビスエポキシドと、ハロベンジル化合物との反応生成物を含有する電気銅めっき浴からフォトレジスト画定フィーチャを電気めっきする方法 | 2018年 2月14日 | |
特許 6278550 | めっき浴および方法 | 2018年 2月14日 | |
特許 6280529 | フォトレジスト組成物及び電子デバイスを形成する関連方法 | 2018年 2月14日 | |
特許 6275212 | イミダゾールとビスエポキシド化合物との反応生成物を含有する電気銅めっき浴からフォトレジスト画定フィーチャを電気めっきする方法 | 2018年 2月 7日 | |
特許 6275991 | 薄いスズのスズめっき | 2018年 2月 7日 | |
特許 6275993 | 一時的結合 | 2018年 2月 7日 | |
特許 6276363 | 酸性銅電気めっき浴から基板上のビア内へ銅を電気めっきする方法 | 2018年 2月 7日 | |
特許 6271116 | フォトレジストおよびその使用方法 | 2018年 1月31日 | |
特許 6271498 | 塩基反応性成分を含む組成物およびフォトリソグラフィーのための方法 | 2018年 1月31日 | |
特許 6261091 | フォトレジストパターントリミング組成物及び方法 | 2018年 1月17日 | |
特許 6261098 | 安定化ナノ粒子、及び安定化ナノ粒子の分散、及び適用方法 | 2018年 1月17日 | |
特許 6262266 | 誘導自己組織化のためのコポリマー配合物、その製造方法、及びそれを含む物品 | 2018年 1月17日 | |
特許 6259748 | 液浸リソグラフィーのための組成物および方法 | 2018年 1月10日 |
90 件中 76-90 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6286597 6283477 6278535 6278550 6280529 6275212 6275991 6275993 6276363 6271116 6271498 6261091 6261098 6262266 6259748
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.の知財の動向チェックに便利です。
9月1日(月) - 千葉 千葉市美浜区中瀬1丁目3番地
9月1日(月) - 東京 港区
特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
9月1日(月) -
9月2日(火) -
9月2日(火) -
9月2日(火) - 東京 港区
9月3日(水) -
9月3日(水) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月4日(木) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月5日(金) -
9月5日(金) -
9月6日(土) -
9月1日(月) - 千葉 千葉市美浜区中瀬1丁目3番地
〒060-0002 札幌市中央区北2条西3丁目1番地太陽生命札幌ビル7階 特許・実用新案 商標 外国特許 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都新宿区西新宿8-1-9 シンコービル 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒106-6111 東京都港区六本木6丁目10番1号 六本木ヒルズ森タワー 11階 横浜駅前オフィス: 〒220-0004 神奈川県横浜市西区北幸1丁目11ー1 水信ビル 7階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング