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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第476位 68件
(2017年:第579位 62件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第341位 83件
(2017年:第348位 80件)
(ランキング更新日:2025年2月17日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6286597 | 多重パターン形成方法 | 2018年 2月28日 | |
特許 6283477 | アミド成分を含むフォトレジスト | 2018年 2月21日 | |
特許 6278535 | イミダゾール化合物と、ビスエポキシドと、ハロベンジル化合物との反応生成物を含有する電気銅めっき浴からフォトレジスト画定フィーチャを電気めっきする方法 | 2018年 2月14日 | |
特許 6278550 | めっき浴および方法 | 2018年 2月14日 | |
特許 6280529 | フォトレジスト組成物及び電子デバイスを形成する関連方法 | 2018年 2月14日 | |
特許 6275212 | イミダゾールとビスエポキシド化合物との反応生成物を含有する電気銅めっき浴からフォトレジスト画定フィーチャを電気めっきする方法 | 2018年 2月 7日 | |
特許 6275991 | 薄いスズのスズめっき | 2018年 2月 7日 | |
特許 6275993 | 一時的結合 | 2018年 2月 7日 | |
特許 6276363 | 酸性銅電気めっき浴から基板上のビア内へ銅を電気めっきする方法 | 2018年 2月 7日 | |
特許 6271116 | フォトレジストおよびその使用方法 | 2018年 1月31日 | |
特許 6271498 | 塩基反応性成分を含む組成物およびフォトリソグラフィーのための方法 | 2018年 1月31日 | |
特許 6261091 | フォトレジストパターントリミング組成物及び方法 | 2018年 1月17日 | |
特許 6261098 | 安定化ナノ粒子、及び安定化ナノ粒子の分散、及び適用方法 | 2018年 1月17日 | |
特許 6262266 | 誘導自己組織化のためのコポリマー配合物、その製造方法、及びそれを含む物品 | 2018年 1月17日 | |
特許 6259748 | 液浸リソグラフィーのための組成物および方法 | 2018年 1月10日 |
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6286597 6283477 6278535 6278550 6280529 6275212 6275991 6275993 6276363 6271116 6271498 6261091 6261098 6262266 6259748
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(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~
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パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
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2月25日(火) -
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