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ギガフォトン株式会社
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第608位 49件
（
2017年：第471位 83件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第581位 42件
（
2017年：第664位 36件）
（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ギガフォトン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 再表 2016-143033 | 高電圧パルス発生装置 | 2018年 2月 1日 | |
| 再表 2016-135965 | ビームダンプ装置、それを備えたレーザ装置および極端紫外光生成装置 | 2018年 1月18日 | |
| 再表 2016-151682 | ＥＵＶ光用回転楕円体ミラーの反射率計測装置 | 2018年 1月18日 | |
| 再表 2016-157315 | 極端紫外光生成装置及びその設計方法 | 2018年 1月18日 | |
| 再表 2016-142995 | レーザ装置及び極端紫外光生成システム | 2018年 1月11日 | |
| 再表 2016-151723 | レーザドーピング装置及びレーザドーピング方法 | 2018年 1月11日 | |
| 再表 2016-151827 | レーザ装置 | 2018年 1月11日 | |
| 再表 2016-152738 | 高電圧パルス発生装置及びガスレーザ装置 | 2018年 1月11日 |
53 件中 46-53 件を表示
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2016-143033 2016-135965 2016-151682 2016-157315 2016-142995 2016-151723 2016-151827 2016-152738
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