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ギガフォトン株式会社
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第424位 10件
（
2025年：第532位 51件）
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第736位 4件
（
2025年：第629位 36件）
（ランキング更新日：2026年2月19日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ギガフォトン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2026-26805 | 半導体素子の製造方法及び半導体素子 | 2026年 2月18日 | |
| 特開 2026-22245 | ターゲット生成装置、極端紫外光生成システム、及び電子デバイスの製造方法 | 2026年 2月12日 | |
| 特開 2026-21566 | レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 | 2026年 2月10日 | |
| 特開 2026-14791 | 極端紫外光生成システム、極端紫外光生成システムの制御方法、及び電子デバイスの製造方法 | 2026年 1月29日 | |
| 特開 2026-13299 | 極端紫外光生成装置及び電子デバイスの製造方法 | 2026年 1月28日 | |
| 特開 2026-9774 | レーザアニールシステム及びレーザアニール方法 | 2026年 1月21日 | |
| 特開 2026-8021 | レーザチャンバ、ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 | 2026年 1月19日 | |
| 特開 2026-4803 | パルス幅伸長システム、レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 | 2026年 1月15日 | |
| 特開 2026-3380 | レーザ増幅器、レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 | 2026年 1月13日 | |
| 特開 2026-2699 | 極端紫外光生成装置、及び電子デバイスの製造方法 | 2026年 1月 8日 |
10 件中 1-10 件を表示
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2026-26805 2026-22245 2026-21566 2026-14791 2026-13299 2026-9774 2026-8021 2026-4803 2026-3380 2026-2699
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