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ギガフォトン株式会社
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第872位 31件
（
2019年：第821位 36件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第547位 42件
（
2019年：第612位 37件）
（ランキング更新日：2025年1月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ギガフォトン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 再表 2019-111382 | レーザ照射システム、及び電子デバイスの製造方法 | 2020年12月24日 | |
| 再表 2019-111393 | 光学素子の移動装置、狭帯域化レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 | 2020年12月24日 | |
| 特開 2020-201452 | 極端紫外光生成システム、レーザビームサイズ制御方法及び電子デバイスの製造方法 | 2020年12月17日 | |
| 再表 2019-97630 | 極端紫外光生成装置及び電子デバイスの製造方法 | 2020年12月10日 | |
| 再表 2019-123612 | レーザ照射システム | 2020年12月10日 | |
| 特開 2020-194967 | 高電圧パルス発生装置及びその制御方法 | 2020年12月 3日 | |
| 再表 2019-69454 | 極端紫外光生成装置及びターゲット供給装置 | 2020年11月26日 | |
| 再表 2019-102613 | エキシマレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 | 2020年11月26日 | |
| 再表 2019-111315 | エキシマレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 | 2020年11月26日 | |
| 再表 2019-69397 | レーザ加工方法及びレーザ加工システム | 2020年11月19日 | |
| 再表 2019-58430 | 極端紫外光生成装置及び極端紫外光生成装置の制御方法 | 2020年11月 5日 | |
| 特開 2020-170040 | ＥＵＶチャンバ装置、極端紫外光生成システム、及び電子デバイスの製造方法 | 2020年10月15日 | |
| 再表 2019-43780 | データ解析装置、半導体製造システム、データ解析方法、及び半導体製造方法 | 2020年10月 8日 | |
| 再表 2019-38825 | 波長変換装置 | 2020年 9月24日 | |
| 再表 2019-35165 | 極端紫外光生成装置及びメンテナンス方法 | 2020年 9月17日 |
32 件中 1-15 件を表示
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2019-111382 2019-111393 2020-201452 2019-97630 2019-123612 2020-194967 2019-69454 2019-102613 2019-111315 2019-69397 2019-58430 2020-170040 2019-43780 2019-38825 2019-35165
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