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ギガフォトン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第1852位 12件
（
2010年：第1636位 16件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第2071位 10件
（
2010年：第5419位 2件）
（ランキング更新日：2025年6月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ギガフォトン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2011-244012 | 光源装置及びそれを用いた露光装置 | 2011年12月 1日 | |
| 特開 2011-238976 | ガスレーザ用光学素子及びそれを用いたガスレーザ装置 | 2011年11月24日 | |
| 特開 2011-228256 | 極端紫外光生成装置、レーザシステムおよび方法 | 2011年11月10日 | |
| 特開 2011-222944 | レーザ装置 | 2011年11月 4日 | |
| 特開 2011-211234 | 紫外線ガスレーザ装置 | 2011年10月20日 | 共同出願 |
| 特開 2011-192849 | レーザ装置 | 2011年 9月29日 | |
| 再表 2009-125745 | ガス放電チャンバ | 2011年 8月 4日 | |
| 特開 2011-135028 | 極端紫外光源装置 | 2011年 7月 7日 | |
| 特開 2011-29587 | 極端紫外光源システム | 2011年 2月10日 | |
| 特開 2011-23712 | 極端紫外光源装置 | 2011年 2月 3日 | 共同出願 |
| 特開 2011-9183 | 極端紫外光源装置 | 2011年 1月13日 | |
| 特開 2011-3887 | チャンバ装置におけるターゲット軌道を計測及び制御する装置及び方法 | 2011年 1月 6日 |
12 件中 1-12 件を表示
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2011-244012 2011-238976 2011-228256 2011-222944 2011-211234 2011-192849 2009-125745 2011-135028 2011-29587 2011-23712 2011-9183 2011-3887
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