ホーム > 特許ランキング > 古河機械金属株式会社 > 2017年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(古河機械金属株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2017年 出願公開件数ランキング 第947位 33件
(2016年:第707位 44件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第842位 26件
(2016年:第2017位 9件)
(ランキング更新日:2025年2月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6253289 | 気相成長装置及び気相成長用加熱装置 | 2017年12月27日 | |
特許 6254412 | 窒化リチウムの製造方法 | 2017年12月27日 | |
特許 6254413 | 硫化リチウムの製造方法 | 2017年12月27日 | |
特許 6250368 | 自立基板の製造方法および自立基板 | 2017年12月20日 | |
特許 6232150 | III族窒化物半導体基板、及び、III族窒化物半導体基板の製造方法 | 2017年11月15日 | |
特許 6224405 | 電気素子および電気素子の製造方法 | 2017年11月 1日 | |
特許 6224424 | III族窒化物半導体自立基板の製造方法 | 2017年11月 1日 | |
特許 6211880 | 電気素子および電気素子の製造方法 | 2017年10月11日 | |
特許 6211911 | 半導体の電気特性の測定装置、半導体の電気特性の測定方法、半導体の電気特性の測定装置の制御装置、およびコンピュータプログラム | 2017年10月11日 | |
特許 6193103 | 半導体の電気特性の測定装置、半導体の電気特性の測定方法、半導体の電気特性の測定装置の制御装置、およびコンピュータプログラム。 | 2017年 9月 6日 | |
特許 6185236 | 造粒機制御装置 | 2017年 8月23日 | |
特許 6178206 | III族窒化物半導体層の製造方法 | 2017年 8月 9日 | |
特許 6158564 | 半導体装置の製造方法及びハイドライド気相成長装置 | 2017年 7月 5日 | |
特許 6144525 | 下地基板の製造方法およびIII族窒化物半導体基板の製造方法 | 2017年 6月 7日 | |
特許 6145248 | 放射線検出器 | 2017年 6月 7日 |
29 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6253289 6254412 6254413 6250368 6232150 6224405 6224424 6211880 6211911 6193103 6185236 6178206 6158564 6144525 6145248
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。古河機械金属株式会社の知財の動向チェックに便利です。
2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月20日(木) - 東京 港区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
愛知県名古屋市中区栄3-2-3 名古屋日興證券ビル4階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒166-0003 東京都杉並区高円寺南2-50-2 YSビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
愛知県小牧市小牧4丁目225番地2 澤屋清七ビル3 206 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング