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ジルトロニック　アクチエンゲゼルシャフト

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ジルトロニック　アクチエンゲゼルシャフトの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7782016	単結晶シリコンロッドの製造デバイスおよび製造方法	2025年12月 8日
特許 7781905	堆積リアクタのチャンバ内でエピタキシャル層を有する半導体ウェハを製造する方法	2025年12月 8日
特許 7775451	シリコンの単結晶の製造プロセス	2025年11月25日
特許 7764603	半導体ウェハを洗浄するための方法	2025年11月 5日
特許 7753336	ワークピースから複数のスライスを同時にスライスするための方法および装置	2025年10月14日
特許 7735584	窒化ガリウムを堆積するためのヘテロエピタキシャルウエハ	2025年 9月 8日
特許 7707276	スリットバルブ通路装置においてパージガスのガスカーテンを発生させるための方法、およびスリットバルブ通路装置	2025年 7月14日
特許 7693955	基板の表面上にシリコンゲルマニウムの歪み緩和傾斜バッファ層を堆積する方法	2025年 6月17日
特許 7682999	基板ウェーハ上に半導体材料の層を堆積させるための装置および方法	2025年 5月26日
特許 7676567	半導体材料で作られた円筒状ロッドからディスクを製造する方法	2025年 5月14日
特許 7661510	半導体基板の応力ロバストネスを試験するための方法	2025年 4月14日
特許 7661369	一連の切断動作中にワイヤソーによって被加工物から複数のスライスを切断する方法	2025年 4月14日
特許 7654688	半導体ウェハの研削方法	2025年 4月 1日
特許 7651725	気相のエピタキシャル層を含む半導体ウェハを堆積チャンバ内で製造する方法	2025年 3月26日
特許 7642860	堆積室において気相から堆積させたエピタキシャル層を有する半導体ウェハを製造するための方法	2025年 3月10日

19 件中 1-15 件を表示

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7782016 7781905 7775451 7764603 7753336 7735584 7707276 7693955 7682999 7676567 7661510 7661369 7654688 7651725 7642860

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