ホーム > 特許ランキング > ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト > 2015年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2015年 出願公開件数ランキング 第1982位 11件
(2014年: 0件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第942位 22件
(2014年: 0件)
(ランキング更新日:2025年4月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5826306 | 半導体ウエハの同時両面研磨用の研磨パッドを調節する方法 | 2015年12月 2日 | |
特許 5805843 | シリコン単結晶基板およびその製造方法 | 2015年11月10日 | |
特許 5805687 | エピタキシャル被覆されたシリコンウェハ及びエピタキシャル被覆されたシリコンウェハの製造方法 | 2015年11月 4日 | |
特許 5777336 | 多結晶シリコン原料のリチャージ方法 | 2015年 9月 9日 | |
特許 5748699 | 材料層を堆積するための装置および方法 | 2015年 7月15日 | |
特許 5745282 | 単結晶シリコンウェハ | 2015年 7月 8日 | |
特許 5745468 | ウエハ型の被処理物を一時保管するための装置および方法 | 2015年 7月 8日 | |
特許 5743511 | 直径が一定の区分を備えたシリコンから成る単結晶を引上げるための方法 | 2015年 7月 1日 | |
特許 5730688 | シリコン基板の製造方法 | 2015年 6月10日 | |
特許 5719815 | エピタキシコーティングされたシリコンウェーハの製造法 | 2015年 5月20日 | |
特許 5697368 | 両面で半導体ウェハを化学的に研削する方法 | 2015年 4月 8日 | |
特許 5693497 | 半導体ウェハ及びその製造法 | 2015年 4月 1日 | |
特許 5693680 | 単結晶シリコンからなる半導体ウエハおよびその製造方法 | 2015年 4月 1日 | |
特許 5693697 | ワイヤソーで加工物を複数のウェハに切断するための、中断されたプロセスを再開するための方法 | 2015年 4月 1日 | |
特許 5683517 | シリコン単結晶の製造方法 | 2015年 3月11日 |
22 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
5826306 5805843 5805687 5777336 5748699 5745282 5745468 5743511 5730688 5719815 5697368 5693497 5693680 5693697 5683517
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフトの知財の動向チェックに便利です。
4月9日(水) -
4月9日(水) -
4月10日(木) - 東京 港区赤坂3-9-1 紀陽ビル4階
【セミナー|知財業界で働くなら知っておくべき】知財部長と代表弁理士が伝える、知財部と事務所の違いとは〈4/10(木)19時~〉
4月11日(金) -
東京都新宿区西新宿8-1-9 シンコービル 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒166-0003 東京都杉並区高円寺南2-50-2 YSビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒973-8403 福島県いわき市内郷綴町榎下16-3 内郷商工会別棟事務所2階 特許・実用新案 意匠 商標 コンサルティング