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ジルトロニック　アクチエンゲゼルシャフト

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ジルトロニック　アクチエンゲゼルシャフトの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6980893	単結晶シリコンから作られる半導体ウェハおよびその製造プロセス	2021年12月15日
特許 6972184	半導体ウェハを処理するための方法、制御システムおよびプラント、ならびに半導体ウェハ	2021年11月24日
特許 6899176	ＦＺ法によって単結晶を引き上げるための方法	2021年 7月 7日
特許 6900512	ＦＺ法によって単結晶を引き上げるための方法およびプラント	2021年 7月 7日
特許 6889170	単結晶の引上げの間に単結晶の直径を決定および調節するための方法	2021年 6月18日
特許 6883581	堆積チャンバでエピタキシャル層を有する半導体ウエハを製造する方法、エピタキシャル層を有する半導体ウエハを製造する装置、およびエピタキシャル層を有する半導体ウエハ	2021年 6月 9日
特許 6880078	半導体ウェハを保持するためのサセプタ、半導体ウェハの表面上にエピタキシャル層を堆積する方法、およびエピタキシャル層を有する半導体ウェハ	2021年 6月 2日
特許 6880208	ＦＺ法によって単結晶を引き上げるための方法	2021年 6月 2日
特許 6851994	ポリシリコンを機械的に分級するためのふるい機用のスクリーン板およびスクリーン板の使用	2021年 3月31日
特許 6821809	単結晶シリコンから構成される半導体ウェハおよび単結晶シリコンから構成される半導体ウェハの製造方法	2021年 1月27日
特許 6816267	るつぼに含まれる融解物から半導体材料からなる単結晶を引き上げる方法	2021年 1月20日
特許 6812572	半導体ウェハの表面上への層の堆積の間に配向ノッチを有する半導体ウェハを保持するためのサセプタおよびサセプタを用いることによって層を堆積する方法	2021年 1月13日

12 件中 1-12 件を表示

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6980893 6972184 6899176 6900512 6889170 6883581 6880078 6880208 6851994 6821809 6816267 6812572

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