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ジルトロニック　アクチエンゲゼルシャフト

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　■　2022年出願公開件数ランキング　　　第1878位　12件（2021年：第3208位　6件）

　■　2022年特許取得件数ランキング　　　第1537位　13件（2021年：第1475位　12件）

（ランキング更新日：2025年2月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

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ジルトロニック　アクチエンゲゼルシャフトの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7192123	ワイヤソーによって半導体ウェハを製造するための方法、ワイヤソー、および、単結晶シリコンの半導体ウェハ	2022年12月19日
特許 7167329	ＣＺ法により半導体材料の単結晶を溶融物から引上げるための装置およびこれを用いた方法	2022年11月 8日
特許 7159329	半導体ウェハを研磨するための方法	2022年10月24日
特許 7102422	ワイヤソー、ワイヤガイドロール、およびインゴットから複数のウェハを同時に切出すための方法	2022年 7月19日
特許 7098717	単結晶シリコンの半導体ウェハおよび半導体ウェハの製造方法	2022年 7月11日
特許 7062078	半導体ウェーハを生産するためのプロセス	2022年 5月 2日
特許 7059351	単結晶シリコンのエピタキシャル被覆半導体ウェハの製造方法	2022年 4月25日
特許 7038146	半導体ウェハを処理するための方法、制御システムおよびプラント、ならびに半導体ウェハ	2022年 3月17日
特許 7026795	半導体ウェハの表側にエピタキシャル層を堆積させる方法およびその方法を実施するための装置	2022年 2月28日
特許 6995980	ｎ型ドーパントでドープされた＜１００＞方位を有するシリコンの単結晶、およびそのような単結晶の製造方法	2022年 2月 3日
特許 7005627	ポリシリコンのための分離装置	2022年 1月21日
特許 6995979	ヘテロエピタキシャルウェハおよびヘテロエピタキシャルウェハの製造方法	2022年 1月17日
特許 6996001	エピタキシャル層を有する半導体ウェーハ	2022年 1月17日

13 件中 1-13 件を表示

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7192123 7167329 7159329 7102422 7098717 7062078 7059351 7038146 7026795 6995980 7005627 6995979 6996001

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2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数

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