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ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト

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  2016年 出願公開件数ランキング    第2477位 8件 下降2015年:第1982位 11件)

  2016年 特許取得件数ランキング    第1172位 18件 下降2015年:第942位 22件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6022000 選択 半導体材料の結晶を作製するための装置およびプロセス 2016年11月 9日
特許 6016748 選択 半導体ウェハ 2016年10月26日
特許 6005118 選択 マイクロバブル生成装置及びシリコンウェハ洗浄装置 2016年10月12日
特許 5995825 選択 少なくとも1つのウエハを研磨する方法 2016年 9月21日
特許 5970526 選択 ワイヤソーによって被加工物からウェハをスライスするための方法 2016年 8月17日
特許 5970593 選択 半導体ウェーハの表面上の欠陥を検出するための表面検査システムの動作状態を監視するための方法 2016年 8月17日
特許 5968365 選択 半導体ウェハの両面研磨方法 2016年 8月10日
特許 5961661 選択 単結晶の直径を設定点直径に制御するための方法 2016年 8月 2日
特許 5957483 選択 同時両面研磨により半導体ウエハを研磨する方法 2016年 7月27日
特許 5951132 選択 溶融領域における単結晶の結晶化により単結晶を製造するための装置 2016年 7月13日
特許 5938428 選択 半導体ウェハ、および半導体ウェハの作製のためのプロセス 2016年 6月22日
特許 5930629 選択 シリコン半導体ウェハ 2016年 6月 8日
特許 5921754 選択 蒸着法によって半導体ウエハ上に層を堆積させる装置 2016年 5月24日
特許 5894858 選択 超音波洗浄方法 2016年 3月30日
特許 5872382 選択 超音波洗浄方法 2016年 3月 1日

18 件中 1-15 件を表示

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6022000 6016748 6005118 5995825 5970526 5970593 5968365 5961661 5957483 5951132 5938428 5930629 5921754 5894858 5872382

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