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ジルトロニック　アクチエンゲゼルシャフト

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　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第2477位　8件（2015年：第1982位　11件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第1172位　18件（2015年：第942位　22件）

（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

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ジルトロニック　アクチエンゲゼルシャフトの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6022000	半導体材料の結晶を作製するための装置およびプロセス	2016年11月 9日
特許 6016748	半導体ウェハ	2016年10月26日
特許 6005118	マイクロバブル生成装置及びシリコンウェハ洗浄装置	2016年10月12日
特許 5995825	少なくとも１つのウエハを研磨する方法	2016年 9月21日
特許 5970526	ワイヤソーによって被加工物からウェハをスライスするための方法	2016年 8月17日
特許 5970593	半導体ウェーハの表面上の欠陥を検出するための表面検査システムの動作状態を監視するための方法	2016年 8月17日
特許 5968365	半導体ウェハの両面研磨方法	2016年 8月10日
特許 5961661	単結晶の直径を設定点直径に制御するための方法	2016年 8月 2日
特許 5957483	同時両面研磨により半導体ウエハを研磨する方法	2016年 7月27日
特許 5951132	溶融領域における単結晶の結晶化により単結晶を製造するための装置	2016年 7月13日
特許 5938428	半導体ウェハ、および半導体ウェハの作製のためのプロセス	2016年 6月22日
特許 5930629	シリコン半導体ウェハ	2016年 6月 8日
特許 5921754	蒸着法によって半導体ウエハ上に層を堆積させる装置	2016年 5月24日
特許 5894858	超音波洗浄方法	2016年 3月30日
特許 5872382	超音波洗浄方法	2016年 3月 1日

18 件中 1-15 件を表示

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6022000 6016748 6005118 5995825 5970526 5970593 5968365 5961661 5957483 5951132 5938428 5930629 5921754 5894858 5872382

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2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数

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