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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第185位 291件
(2016年:第182位 243件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第113位 286件
(2016年:第93位 350件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6067309 | 内視鏡システムおよび内視鏡用プロセッサ | 2017年 1月25日 | |
特許 6067482 | 光学ガラス、プレス成形用ガラス素材および光学素子とその製造方法ならびに光学素子ブランクの製造方法 | 2017年 1月25日 | |
特許 6061490 | レンズ保持用ラックおよびレンズ製造方法 | 2017年 1月18日 | |
特許 6062195 | 転写用マスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2017年 1月18日 | |
特許 6062301 | 射出成型用レンズ成形型、及びプラスチックレンズの製造方法 | 2017年 1月18日 | |
特許 6063044 | キャリア、磁気ディスク用基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | 2017年 1月18日 | |
特許 6063248 | レンズ加工システム、発注側端末装置およびレンズ発注方法 | 2017年 1月18日 | |
特許 6063325 | レンズ加工方法、レンズ加工プログラムおよび加工制御装置 | 2017年 1月18日 | |
特許 6063611 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2017年 1月18日 | |
特許 6063650 | フォトマスクの製造方法 | 2017年 1月18日 | |
特許 6063733 | 内視鏡装置 | 2017年 1月18日 | |
特許 6057649 | 眼鏡レンズの製造方法 | 2017年 1月11日 | |
特許 6058318 | マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法、および半導体デバイスの製造方法 | 2017年 1月11日 | |
特許 6058757 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 | 2017年 1月11日 | |
特許 6059732 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2017年 1月11日 |
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6067309 6067482 6061490 6062195 6062301 6063044 6063248 6063325 6063611 6063650 6063733 6057649 6058318 6058757 6059732
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10月17日(金) - 東京 千代田区
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10月17日(金) -
10月17日(金) - 東京 千代田区
10月20日(月) -
10月21日(火) -
10月21日(火) - 東京 港区
10月21日(火) - 東京 港区
10月21日(火) -
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10月21日(火) -
10月22日(水) - 東京 港区
10月22日(水) - 東京 品川
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10月22日(水) - 栃木 宇都宮市
10月23日(木) - 東京 港区
10月23日(木) -
10月24日(金) -
10月24日(金) -
10月24日(金) -
10月24日(金) - 東京 千代田区
10月24日(金) -
10月24日(金) -
10月24日(金) -
10月20日(月) -
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