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株式会社日立ハイテクノロジーズ

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　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第182位　243件（2015年：第107位　423件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第89位　360件（2015年：第95位　287件）

（ランキング更新日：2025年6月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2016-213359	プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法	2016年12月15日
特開 2016-213360	プラズマ処理装置、データ処理装置およびデータ処理方法	2016年12月15日
特開 2016-213393	真空処理装置およびその運転方法	2016年12月15日
特開 2016-213394	真空処理装置	2016年12月15日
特開 2016-213404	プラズマエッチング方法	2016年12月15日
特開 2016-202021	細胞膜剥離装置、剥離方法、および観察方法	2016年12月 8日
特開 2016-202024	成分分析装置、薬剤成分分析装置、成分分析方法及び薬剤成分分析方法	2016年12月 8日
特開 2016-207319	電界放出型電子源及びその製造方法	2016年12月 8日
特開 2016-207409	プラズマ処理装置	2016年12月 8日
特開 2016-207753	プラズマエッチング方法	2016年12月 8日
特開 2016-191561	分注ノズル洗浄方法および自動分析装置	2016年11月10日
特開 2016-192273	荷電粒子線装置および試料ステージの制御方法	2016年11月10日
特開 2016-192457	半導体検査装置	2016年11月10日
特開 2016-188872	電解質分析装置及び電解質分析方法	2016年11月 4日
特開 2016-189332	複合荷電粒子線検出器および荷電粒子線装置ならびに荷電粒子線検出器	2016年11月 4日

246 件中 16-30 件を表示

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2016-213359 2016-213360 2016-213393 2016-213394 2016-213404 2016-202021 2016-202024 2016-207319 2016-207409 2016-207753 2016-191561 2016-192273 2016-192457 2016-188872 2016-189332

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