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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第173位 202件
(2023年:第197位 193件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第185位 185件
(2023年:第172位 201件)
(ランキング更新日:2025年10月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7558107 | 横軸ポンプの内部点検装置及び横軸ポンプの内部点検方法 | 2024年 9月30日 | |
特許 7558455 | めっき装置 | 2024年 9月30日 | |
特許 7558461 | めっき方法 | 2024年 9月30日 | |
特許 7555870 | 真空ポンプ装置 | 2024年 9月25日 | |
特許 7555876 | サブファブエリア設置装置 | 2024年 9月25日 | |
特許 7555308 | めっき装置 | 2024年 9月24日 | |
特許 7553917 | 研磨装置および研磨方法 | 2024年 9月19日 | |
特許 7550593 | 情報処理システム、方法及びプログラム | 2024年 9月13日 | |
特許 7550618 | ポンプシステム及び監視装置 | 2024年 9月13日 | |
特許 7550720 | ガス溶解液供給装置 | 2024年 9月13日 | |
特許 7548761 | 基板処理装置 | 2024年 9月10日 | |
特許 7547275 | ワークピースの膜厚を推定するモデルを作成する方法、そのようなモデルを用いてワークピースの研磨中に膜厚を推定する方法、およびコンピュータにこれらの方法を実行させるためのプログラム | 2024年 9月 9日 | |
特許 7547525 | 半導体製造プロセスのための冷却システム、および半導体製造システム | 2024年 9月 9日 | |
特許 7545317 | 処理ガス吸入構造および排ガス処理装置 | 2024年 9月 4日 | |
特許 7543078 | バッファ室およびバッファ室を備えるAMシステム | 2024年 9月 2日 |
187 件中 46-60 件を表示
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7558107 7558455 7558461 7555870 7555876 7555308 7553917 7550593 7550618 7550720 7548761 7547275 7547525 7545317 7543078
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10月21日(火) - 東京 港区
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10月21日(火) -
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