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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第114位 380件 (2017年:第123位 417件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第170位 177件 (2017年:第183位 176件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6444785 | 研磨装置およびその制御方法ならびにドレッシング条件出力方法 | 2018年12月26日 | |
特許 6445241 | 渦電流センサ | 2018年12月26日 | |
特許 6445292 | 真空ポンプ | 2018年12月26日 | |
特許 6445298 | 研磨装置、及び、処理方法 | 2018年12月26日 | |
特許 6445357 | 半導体デバイス製造装置の構成部品を交換する装置 | 2018年12月26日 | |
特許 6445771 | 膜厚測定値の補正方法、及び、膜厚補正器 | 2018年12月26日 | |
特許 6445785 | 電動モータ及びこれを備えたポンプ | 2018年12月26日 | |
特許 6445924 | 研磨装置 | 2018年12月26日 | |
特許 6441660 | 除害機能付真空ポンプ | 2018年12月19日 | |
特許 6437529 | エネルギー回収システム | 2018年12月12日 | |
特許 6438209 | 検査装置において撮像装置用のタイミング信号を生成するための制御装置、撮像装置にタイミング信号を送出する方法 | 2018年12月12日 | |
特許 6435036 | 回転保持装置及び基板洗浄装置 | 2018年12月 5日 | |
特許 6430152 | 液体ポンプおよび液体ポンプシステム | 2018年11月28日 | |
特許 6430177 | バフ処理モジュール、及び、処理装置 | 2018年11月28日 | |
特許 6430702 | レーザ測長器の反射鏡の支持構造 | 2018年11月28日 |
178 件中 1-15 件を表示
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6444785 6445241 6445292 6445298 6445357 6445771 6445785 6445924 6441660 6437529 6438209 6435036 6430152 6430177 6430702
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