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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第233位 176件
(2015年:第206位 233件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第254位 129件
(2015年:第329位 83件)
(ランキング更新日:2025年4月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6053528 | 基板把持装置 | 2016年12月27日 | |
特許 6054805 | 基板洗浄装置 | 2016年12月27日 | |
特許 6055205 | 流体抵抗低減皮膜およびこれを用いた流体機械 | 2016年12月27日 | |
特許 6055648 | 研磨装置及び研磨方法 | 2016年12月27日 | |
特許 6046933 | 研磨方法 | 2016年12月21日 | |
特許 6049340 | 研磨フィルムの製造方法、研磨フィルム | 2016年12月21日 | |
特許 6049592 | 空気抜き装置、軸受装置 | 2016年12月21日 | |
特許 6050081 | ドライ真空ポンプ装置 | 2016年12月21日 | |
特許 6050571 | 研磨監視方法および研磨装置 | 2016年12月21日 | |
特許 6051056 | 渦巻ポンプ | 2016年12月21日 | |
特許 6041645 | 制御装置 | 2016年12月14日 | |
特許 6041967 | 研磨パッドのコンディショニング方法及び装置 | 2016年12月14日 | |
特許 6042129 | ウェアリング及びこれを用いた遠心ポンプ装置 | 2016年12月14日 | |
特許 6042178 | 真空ポンプユニット、及び真空ステーション | 2016年12月14日 | |
特許 6042179 | 真空ポンプユニット、及び真空ステーション | 2016年12月14日 |
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6053528 6054805 6055205 6055648 6046933 6049340 6049592 6050081 6050571 6051056 6041645 6041967 6042129 6042178 6042179
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4月4日(金) -
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