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三菱マテリアル株式会社

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  2015年 出願公開件数ランキング    第113位 407件 下降2014年:第81位 515件)

  2015年 特許取得件数ランキング    第75位 357件 下降2014年:第59位 582件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 5754223 定着装置 2015年 7月29日
特許 5754382 リチウムイオン二次電池用負極活物質及び該負極活物質を用いたリチウムイオン二次電池並びにリチウムイオン二次電池用負極活物質の製造方法 2015年 7月29日
特許 5754383 リチウムイオン二次電池用負極活物質及び該負極活物質を用いたリチウムイオン二次電池並びにリチウムイオン二次電池用負極活物質の製造方法 2015年 7月29日
特許 5754499 トリクロロシラン製造方法 2015年 7月29日
特許 5754539 LaNiO3薄膜形成用組成物及びこの組成物を用いたLaNiO3薄膜の形成方法 2015年 7月29日
特許 5754582 プリコート用ハンダペースト 2015年 7月29日
特許 5754626 赤外線センサ 2015年 7月29日
特許 5757185 掘削装置におけるケーシングパイプの接続装置 2015年 7月29日
特許 5757232 硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具 2015年 7月29日
特許 5757318 保護膜形成用スパッタリングターゲットおよび積層配線膜 2015年 7月29日
特許 5757322 固定部材解体システム、固定部材解体方法 2015年 7月29日
特許 5757359 Cu/セラミックス接合体、Cu/セラミックス接合体の製造方法、及び、パワーモジュール用基板 2015年 7月29日
特許 5750913 ハンダ粉末及びこの粉末を用いたハンダ用ペースト 2015年 7月22日
特許 5751482 酸化物スパッタリングターゲットの製造方法並びにこれに用いる緩衝粉 2015年 7月22日
特許 5752736 スパッタリング用ターゲット 2015年 7月22日

363 件中 136-150 件を表示

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5754223 5754382 5754383 5754499 5754539 5754582 5754626 5757185 5757232 5757318 5757322 5757359 5750913 5751482 5752736

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