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北京北方微▲電▼子基地▲設▼▲備▼工▲芸▼研究中心有限▲責▼任公司
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第1059位 22件
（
2024年：第1269位 18件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第943位 22件
（
2024年：第936位 24件）
（ランキング更新日：2026年10月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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北京北方微▲電▼子基地▲設▼▲備▼工▲芸▼研究中心有限▲責▼任公司の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7793076 | 吸気アセンブリ、プロセスチャンバー及び半導体プロセス装置 | 2025年12月26日 | |
| 特許 7791316 | プロセスチャンバ、半導体プロセス装置及び半導体プロセス方法 | 2025年12月23日 | |
| 特許 7783439 | 凝縮水分離装置及び半導体プロセス装置 | 2025年12月 9日 | |
| 特許 7774725 | プラズマ半導体処理用のセグメント化されたフォーカスリングおよびセグメント化されたフォーカスリングを使用するように構成された処理ツール | 2025年11月21日 | |
| 特許 7769725 | 半導体プロセス装置及びそのガス混合供給手段 | 2025年11月13日 | |
| 特許 7761782 | プラズマ発生用コイル構造及び半導体プロセス装置 | 2025年10月28日 | |
| 特許 7761772 | 温度制御方法 | 2025年10月28日 | |
| 特許 7759526 | 誘導コイルアセンブリの駆動システムおよびその制御方法、半導体プロセス装置 | 2025年10月23日 | |
| 特許 7746607 | 半導体プロセス装置及びそのプロセスチャンバー並びにトレイの検出方法 | 2025年 9月30日 | |
| 特許 7727098 | プラズマ半導体プロセス用の多層フォーカスリング | 2025年 8月20日 | |
| 特許 7727152 | 半導体プロセスチャンバー及び半導体プロセス機器 | 2025年 8月20日 | |
| 特許 7724388 | プロセスチャンバー、半導体プロセス機器及びプロセス方法 | 2025年 8月15日 | |
| 特許 7719296 | 複数の無線周波数（ＲＦ）電極を含む基板支持体 | 2025年 8月 5日 | |
| 特許 7710987 | シールド冷却アセンブリ、反応チャンバ、および半導体処理装置 | 2025年 7月22日 | |
| 特許 7704988 | 半導体プロセス機器及びその載置装置 | 2025年 7月 8日 |
22 件中 1-15 件を表示
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7793076 7791316 7783439 7774725 7769725 7761782 7761772 7759526 7746607 7727098 7727152 7724388 7719296 7710987 7704988
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