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公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7406044	半導体処理装置の処理ジョブの起動方法、及び装置	2023年12月26日
特許 7403716	加熱器および加熱台	2023年12月22日
特許 7402379	半導体加工装置のアンロック機構、半導体加工装置	2023年12月20日
特許 7402380	プリロードチャンバおよび半導体プロセスプラットフォーム	2023年12月20日
特許 7402383	半導体プロセス装置、並びにその反応チャンバ及び膜層堆積方法	2023年12月20日
特許 7383837	上部電極機構、高周波コイルの電流制御方法および半導体処理装置	2023年11月20日
特許 7370499	半導体プロセス機器	2023年10月27日
特許 7320597	リフトシンブルシステム、反応チャンバおよび半導体処理装置	2023年 8月 3日
特許 7316455	物理蒸着チャンバおよび物理蒸着装置	2023年 7月27日
特許 7312854	クリーニング・チャンバおよびクリーニング装置	2023年 7月21日
特許 7295946	ライナアッセンブリ、反応チャンバおよび半導体処理装置	2023年 6月21日
特許 7279156	静電チャックおよび反応チャンバ	2023年 5月22日
特許 7267308	上方電極アセンブリ、反応チャンバおよび原子層堆積装置	2023年 5月 1日
特許 7203207	ガス吸気システム、原子層堆積装置および方法	2023年 1月12日
特許 7198915	静電チャック	2023年 1月 4日

15 件中 1-15 件を表示

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7406044 7403716 7402379 7402380 7402383 7383837 7370499 7320597 7316455 7312854 7295946 7279156 7267308 7203207 7198915

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