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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第979位 27件
(
2022年:第2007位 11件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第1353位 15件
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2022年:第2054位 9件)
(ランキング更新日:2026年1月30日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7406044 | 半導体処理装置の処理ジョブの起動方法、及び装置 | 2023年12月26日 | |
| 特許 7403716 | 加熱器および加熱台 | 2023年12月22日 | |
| 特許 7402379 | 半導体加工装置のアンロック機構、半導体加工装置 | 2023年12月20日 | |
| 特許 7402380 | プリロードチャンバおよび半導体プロセスプラットフォーム | 2023年12月20日 | |
| 特許 7402383 | 半導体プロセス装置、並びにその反応チャンバ及び膜層堆積方法 | 2023年12月20日 | |
| 特許 7383837 | 上部電極機構、高周波コイルの電流制御方法および半導体処理装置 | 2023年11月20日 | |
| 特許 7370499 | 半導体プロセス機器 | 2023年10月27日 | |
| 特許 7320597 | リフトシンブルシステム、反応チャンバおよび半導体処理装置 | 2023年 8月 3日 | |
| 特許 7316455 | 物理蒸着チャンバおよび物理蒸着装置 | 2023年 7月27日 | |
| 特許 7312854 | クリーニング・チャンバおよびクリーニング装置 | 2023年 7月21日 | |
| 特許 7295946 | ライナアッセンブリ、反応チャンバおよび半導体処理装置 | 2023年 6月21日 | |
| 特許 7279156 | 静電チャックおよび反応チャンバ | 2023年 5月22日 | |
| 特許 7267308 | 上方電極アセンブリ、反応チャンバおよび原子層堆積装置 | 2023年 5月 1日 | |
| 特許 7203207 | ガス吸気システム、原子層堆積装置および方法 | 2023年 1月12日 | |
| 特許 7198915 | 静電チャック | 2023年 1月 4日 |
15 件中 1-15 件を表示
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7406044 7403716 7402379 7402380 7402383 7383837 7370499 7320597 7316455 7312854 7295946 7279156 7267308 7203207 7198915
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