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東京応化工業株式会社
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第298位 135件
（
2014年：第266位 159件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第226位 131件
（2014年：第204位 207件）
（ランキング更新日：2025年11月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5680916 | 電界効果トランジスタ及び電界効果トランジスタの製造方法 | 2015年 3月 4日 | |
| 特許 5680932 | 表面処理剤及び表面処理方法 | 2015年 3月 4日 | |
| 特許 5681339 | 化合物の製造方法 | 2015年 3月 4日 | |
| 特許 5674506 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2015年 2月25日 | |
| 特許 5677127 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2015年 2月25日 | |
| 特許 5677128 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2015年 2月25日 | |
| 特許 5677135 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 | 2015年 2月25日 | |
| 特許 5671261 | 被処理体の処理方法 | 2015年 2月18日 | |
| 特許 5671265 | 基板の加工方法 | 2015年 2月18日 | |
| 特許 5666254 | 拡散剤組成物および不純物拡散層の形成方法 | 2015年 2月12日 | |
| 特許 5666267 | 塗布型拡散剤組成物 | 2015年 2月12日 | |
| 特許 5666833 | 基板処理システム | 2015年 2月12日 | |
| 特許 5662664 | 加工基板及びその製造方法 | 2015年 2月 4日 | |
| 特許 5662744 | 保持装置 | 2015年 2月 4日 | |
| 特許 5663140 | 被覆パターン形成方法、レジスト被覆膜形成用材料、パターン形成方法 | 2015年 2月 4日 |
135 件中 106-120 件を表示
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5680916 5680932 5681339 5674506 5677127 5677128 5677135 5671261 5671265 5666254 5666267 5666833 5662664 5662744 5663140
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