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東京応化工業株式会社
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第298位 135件
（
2014年：第266位 159件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第226位 131件
（2014年：第204位 207件）
（ランキング更新日：2025年10月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5765865 | 半導体発光素子及びフォトニック結晶周期構造のパラメータ計算方法 | 2015年 8月19日 | |
| 特許 5765878 | 流体用容器 | 2015年 8月19日 | |
| 特許 5767845 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 | 2015年 8月19日 | |
| 特許 5757848 | 水溶性塗布膜材料、水溶性塗布膜材料の粘度調整方法、及び水溶性塗布膜材料用粘度調整剤 | 2015年 8月 5日 | |
| 特許 5757977 | 電極形成用導電性組成物及び太陽電池の形成方法 | 2015年 8月 5日 | |
| 特許 5758197 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 | 2015年 8月 5日 | |
| 特許 5758232 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2015年 8月 5日 | |
| 特許 5759086 | 貼付方法 | 2015年 8月 5日 | |
| 特許 5756334 | 積層体、およびその積層体の分離方法 | 2015年 7月29日 | |
| 特許 5757512 | 深紫外ＬＥＤ及びその製造方法 | 2015年 7月29日 | |
| 特許 5750476 | レジストパターン形成方法 | 2015年 7月22日 | |
| 特許 5752388 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2015年 7月22日 | |
| 特許 5752471 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 | 2015年 7月22日 | |
| 特許 5752832 | 化合物及びそれからなる酸発生剤 | 2015年 7月22日 | |
| 特許 5749480 | 新規化合物 | 2015年 7月15日 |
135 件中 46-60 件を表示
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5765865 5765878 5767845 5757848 5757977 5758197 5758232 5759086 5756334 5757512 5750476 5752388 5752471 5752832 5749480
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