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東京応化工業株式会社
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第287位 137件
（
2017年：第280位 165件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第245位 119件
（2017年：第200位 158件）
（ランキング更新日：2025年1月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2018-25614 | 基板の製造方法 | 2018年 2月15日 | |
| 特開 2018-25696 | レジストパターン厚肉化用ポリマー組成物、及びレジストパターン形成方法 | 2018年 2月15日 | |
| 特開 2018-20301 | 多孔質体、フィルタ、フィルターメディア、フィルターデバイス、アクリル系ポリマーの精製方法及び製造方法、並びに感光性樹脂組成物の製造方法 | 2018年 2月 8日 | |
| 特開 2018-21174 | マイクロレンズパターン製造用ポジ型感光性樹脂組成物及びその用途 | 2018年 2月 8日 | |
| 特開 2018-21977 | レジストパターン厚肉化用ポリマー組成物、及びレジストパターン形成方法 | 2018年 2月 8日 | |
| 特開 2018-22039 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2018年 2月 8日 | |
| 特開 2018-15678 | ガス透過膜 | 2018年 2月 1日 | |
| 特開 2018-16809 | 化合物及び高分子化合物 | 2018年 2月 1日 | |
| 特開 2018-12823 | 高分子化合物の製造方法 | 2018年 1月25日 | |
| 特開 2018-13716 | 感光性樹脂組成物、硬化膜、カラーフィルタ、及び硬化膜の製造方法 | 2018年 1月25日 | |
| 特開 2018-13743 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、高分子化合物 | 2018年 1月25日 | |
| 特開 2018-14361 | 支持体分離装置および支持体分離方法 | 2018年 1月25日 | |
| 特開 2018-10904 | 半導体基板を製造する方法 | 2018年 1月18日 | |
| 特開 2018-1604 | 積層体、その製造方法、電子部品の製造方法、及び積層体において分離層と基板との接着性を向上させる方法 | 2018年 1月11日 | |
| 特開 2018-4775 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2018年 1月11日 |
144 件中 121-135 件を表示
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2018-25614 2018-25696 2018-20301 2018-21174 2018-21977 2018-22039 2018-15678 2018-16809 2018-12823 2018-13716 2018-13743 2018-14361 2018-10904 2018-1604 2018-4775
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