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東京応化工業株式会社

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　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第288位　133件（2015年：第298位　135件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第233位　146件（2015年：第226位　131件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

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東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2016-223045	表面にパターンを有する繊維の製造方法	2016年12月28日
特開 2016-223046	表面にパターンを有する繊維の製造方法	2016年12月28日
特開 2016-224097	レジストパターン形成方法及びスプリットパターン形成用のポジ型レジスト組成物	2016年12月28日
特開 2016-224282	レジストパターン形成方法	2016年12月28日
特開 2016-215394	分離層形成用組成物、分離層、分離層を含む積層体、積層体の製造方法および積層体の処理方法	2016年12月22日
特開 2016-216695	多孔質膜の製造方法	2016年12月22日
特開 2016-218353	感光性組成物、パターン形成方法、硬化膜、絶縁膜、及び表示装置	2016年12月22日
特開 2016-219634	積層体の製造方法及び支持体分離方法	2016年12月22日
特開 2016-209826	相分離構造を含む構造体の製造方法、ブロックコポリマー組成物及びブロックコポリマー組成物に用いる有機溶剤	2016年12月15日
特開 2016-209844	塗布装置、塗布システム及び塗布方法	2016年12月15日
特開 2016-210820	重合性組成物、感光性組成物、及び感光性組成物の硬化物	2016年12月15日
特開 2016-212350	絶縁膜形成用感光性組成物、及び絶縁膜パターンの形成方法	2016年12月15日
特表 2016-538520	集光システム用反射鏡及び集光システム	2016年12月 8日
特開 2016-204454	接着剤組成物、積層体、積層体の製造方法	2016年12月 8日
特開 2016-206673	送液性が改善されたフォトリソグラフィー用薬液及びこれを含むレジスト組成物｛ＣＨＥＭＩＣＡＬ　ＦＯＲ　ＰＨＯＴＯＬＩＴＨＯＧＲＡＰＨＹ　ＷＩＴＨ　ＩＭＰＲＯＶＥＤ　ＬＩＱＵＩＤ　ＴＲＡＮＳＦＥＲ　ＰＲＯＰＥＲＴＹ　ＡＮＤ　ＲＥＳＩＳＴ　ＣＯＭＰＯＳＩＴＩＯＮ　ＣＯＭＰＲＩＳＩＮＧ　ＴＨＥ　ＳＡＭＥ｝	2016年12月 8日

135 件中 1-15 件を表示

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2016-223045 2016-223046 2016-224097 2016-224282 2016-215394 2016-216695 2016-218353 2016-219634 2016-209826 2016-209844 2016-210820 2016-212350 2016-538520 2016-204454 2016-206673

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数

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