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東京応化工業株式会社

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 ■ 2016年 出願公開件数ランキング    第284位 130件 (上昇2015年:第298位 126件)

 ■ 2016年 特許取得件数ランキング    第235位 145件 (下降2015年:第226位 131件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2016-224282 レジストパターン形成方法 2016年12月28日
特開 2016-224097 レジストパターン形成方法及びスプリットパターン形成用のポジ型レジスト組成物 2016年12月28日
特開 2016-223046 表面にパターンを有する繊維の製造方法 2016年12月28日
特開 2016-223045 表面にパターンを有する繊維の製造方法 2016年12月28日
特開 2016-219634 積層体の製造方法及び支持体分離方法 2016年12月22日
特開 2016-218353 感光性組成物、パターン形成方法、硬化膜、絶縁膜、及び表示装置 2016年12月22日
特開 2016-216695 多孔質膜の製造方法 2016年12月22日
特開 2016-215394 分離層形成用組成物、分離層、分離層を含む積層体、積層体の製造方法および積層体の処理方法 2016年12月22日
特開 2016-212350 絶縁膜形成用感光性組成物、及び絶縁膜パターンの形成方法 2016年12月15日
特開 2016-209826 相分離構造を含む構造体の製造方法、ブロックコポリマー組成物及びブロックコポリマー組成物に用いる有機溶剤 2016年12月15日
特開 2016-209844 塗布装置、塗布システム及び塗布方法 2016年12月15日
特開 2016-210820 重合性組成物、感光性組成物、及び感光性組成物の硬化物 2016年12月15日
特開 2016-204454 接着剤組成物、積層体、積層体の製造方法 2016年12月 8日
特開 2016-207685 ナノインプリント用組成物及びナノインプリントパターン形成方法 2016年12月 8日
特表 2016-538520 集光システム用反射鏡及び集光システム 2016年12月 8日

132 件中 1-15 件を表示

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2016-224282 2016-224097 2016-223046 2016-223045 2016-219634 2016-218353 2016-216695 2016-215394 2016-212350 2016-209826 2016-209844 2016-210820 2016-204454 2016-207685 2016-538520

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