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東京応化工業株式会社

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  2026年 出願公開件数ランキング    第211位 35件 上昇2025年:第239位 141件)

  2026年 特許取得件数ランキング    第315位 19件 上昇2025年:第361位 74件)

(ランキング更新日:2026年3月17日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2026-48826 高分子化合物 2026年 3月17日
特開 2026-47719 金属配線基板の製造方法 2026年 3月16日
特開 2026-43297 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、及び化合物 2026年 3月12日
特開 2026-42660 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 2026年 3月11日
特開 2026-35092 化学増幅型ポジ型感光性組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法 2026年 3月 4日
特開 2026-35093 化学増幅型ポジ型感光性組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法 2026年 3月 4日
特開 2026-35094 化学増幅型ポジ型感光性組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法 2026年 3月 4日
特開 2026-35095 化学増幅型ポジ型感光性組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法 2026年 3月 4日
特開 2026-35102 化学増幅型ポジ型感光性組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、及びめっき造形物の製造方法 2026年 3月 4日
特開 2026-35549 化学増幅型ポジ型感光性組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法 2026年 3月 4日
特開 2026-31904 半導体デバイス用処理液 2026年 2月25日
特開 2026-25995 硬化フォトレジスト除去のための合理的な溶媒配合 2026年 2月16日
特開 2026-23027 接着剤組成物 2026年 2月13日
特開 2026-23028 積層体 2026年 2月13日
特開 2026-23627 多孔質膜、液体の精製方法、フィルターメディア、及びフィルターデバイス 2026年 2月13日

35 件中 1-15 件を表示

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2026-48826 2026-47719 2026-43297 2026-42660 2026-35092 2026-35093 2026-35094 2026-35095 2026-35102 2026-35549 2026-31904 2026-25995 2026-23027 2026-23028 2026-23627

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