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東京応化工業株式会社

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  2024年 出願公開件数ランキング    第255位 124件 上昇2023年:第318位 109件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第252位 116件 上昇2023年:第281位 118件)

(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2024-162396 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 2024年11月21日
特開 2024-162550 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 2024年11月21日
特開 2024-160592 表面改質層形成用組成物、及びレジストパターン形成方法 2024年11月14日
特開 2024-160688 エッチングマスクパターン形成用樹脂組成物、及びエッチングマスクパターンの製造方法 2024年11月14日
特開 2024-158543 エッチングマスクパターン形成用樹脂組成物、及びエッチングマスクパターンの製造方法 2024年11月 8日
特開 2024-159497 輻射シート、放熱板、放熱装置、及び輻射シートの製造方法 2024年11月 8日
特開 2024-159590 エッチングマスクパターンの製造方法及びエッチングマスクパターン形成用樹脂組成物 2024年11月 8日
特開 2024-155939 化合物及び酸拡散制御剤 2024年10月31日
特開 2024-151472 表面修飾ポリイミド多孔質膜、及び表面修飾ポリイミドの製造方法 2024年10月25日
特開 2024-149608 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2024年10月18日
特開 2024-147880 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 2024年10月17日
特開 2024-143774 感光性樹脂組成物およびその製造方法 2024年10月11日
特開 2024-138960 改質金属酸化物粒子の製造方法、改質金属酸化物粒子、光硬化性組成物、硬化物 2024年10月 9日
特開 2024-137132 電磁波吸収体、及び電磁波吸収体形成用ペースト 2024年10月 7日
特開 2024-135730 硬化物層を基板から剥離する剥離方法、パターン化された硬化物層を備える基板の製造方法、及び剥離液 2024年10月 4日

128 件中 1-15 件を表示

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2024-162396 2024-162550 2024-160592 2024-160688 2024-158543 2024-159497 2024-159590 2024-155939 2024-151472 2024-149608 2024-147880 2024-143774 2024-138960 2024-137132 2024-135730

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