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東京応化工業株式会社

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東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2025-28744	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び、酸発生剤	2025年 3月 3日
特開 2025-27484	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸拡散制御剤	2025年 2月28日
特開 2025-24871	低屈折率膜形成用硬化性組成物、低屈折率膜、光学デバイス、及び低屈折率膜の製造方法	2025年 2月21日
特開 2025-26745	ルテニウム含有層を洗浄又はエッチングするために用いられる薬液、及びルテニウム配線の製造方法	2025年 2月21日
特開 2025-22617	メタタングステン酸塩化合物の製造方法、レジスト用メタタングステン酸塩化合物、及び、レジスト材料	2025年 2月14日
特開 2025-17056	相分離構造形成用樹脂組成物、及び相分離構造を含む構造体の製造方法	2025年 2月 5日
特開 2025-17275	積層体、及び電子部品の製造方法	2025年 2月 5日
特開 2025-14966	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び高分子化合物	2025年 1月30日
特開 2025-11851	構造体、及び海洋生物の付着防止方法	2025年 1月24日
特開 2025-12722	支持基体分離方法、及び電子部品の製造方法	2025年 1月24日
特開 2025-13053	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物	2025年 1月24日
特開 2025-9057	レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物	2025年 1月20日
特開 2025-5802	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物	2025年 1月17日
特開 2025-6594	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物	2025年 1月17日
特開 2025-7433	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2025年 1月17日

21 件中 1-15 件を表示

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2025-28744 2025-27484 2025-24871 2025-26745 2025-22617 2025-17056 2025-17275 2025-14966 2025-11851 2025-12722 2025-13053 2025-9057 2025-5802 2025-6594 2025-7433

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