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東京応化工業株式会社
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第212位 14件
（
2024年：第253位 138件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第341位 7件
（
2024年：第258位 123件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2025-14966 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び高分子化合物 | 2025年 1月30日 | |
| 特開 2025-11851 | 構造体、及び海洋生物の付着防止方法 | 2025年 1月24日 | |
| 特開 2025-12722 | 支持基体分離方法、及び電子部品の製造方法 | 2025年 1月24日 | |
| 特開 2025-13053 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 | 2025年 1月24日 | |
| 特開 2025-9057 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 | 2025年 1月20日 | |
| 特開 2025-5802 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 | 2025年 1月17日 | |
| 特開 2025-6594 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 | 2025年 1月17日 | |
| 特開 2025-7433 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2025年 1月17日 | |
| 特開 2025-4966 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 | 2025年 1月16日 | |
| 特開 2025-5025 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、及び化合物 | 2025年 1月16日 | |
| 特開 2025-2574 | ブロックコポリマー、下地剤、相分離構造形成用組成物成用樹脂組成物、及び相分離構造を含む構造体の製造方法 | 2025年 1月 9日 | |
| 特開 2025-2575 | 相分離構造を含む構造体の製造方法、及び組成物 | 2025年 1月 9日 | |
| 特開 2025-2819 | 洗浄液、基板の洗浄方法、及び半導体の製造方法 | 2025年 1月 9日 | |
| 特開 2025-3301 | 洗浄液、半導体基板の洗浄方法、及び半導体の製造方法 | 2025年 1月 9日 |
14 件中 1-14 件を表示
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2025-14966 2025-11851 2025-12722 2025-13053 2025-9057 2025-5802 2025-6594 2025-7433 2025-4966 2025-5025 2025-2574 2025-2575 2025-2819 2025-3301
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