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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第257位 38件
(2024年:第253位 138件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第345位 23件
(2024年:第258位 123件)
(ランキング更新日:2025年4月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2025-63109 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸拡散制御剤 | 2025年 4月15日 | |
特開 2025-62194 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 | 2025年 4月14日 | |
特開 2025-62325 | レジスト組成物精製品の製造方法、レジストパターン形成方法、及びレジスト組成物精製品 | 2025年 4月14日 | |
特開 2025-48682 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤、及び酸拡散制御剤 | 2025年 4月 3日 | |
特開 2025-41249 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2025年 3月26日 | |
特開 2025-40235 | ポリ酸塩の溶媒和物、及び、その製造方法。 | 2025年 3月24日 | |
特開 2025-40236 | レジスト材料、及び、その製造方法 | 2025年 3月24日 | |
特開 2025-40413 | 処理液、基板の処理方法、及び半導体基板の製造方法 | 2025年 3月24日 | |
特開 2025-35905 | 多孔質膜製造用組成物、多孔質膜の製造方法、及び多孔質膜 | 2025年 3月14日 | |
特開 2025-35906 | 多孔質膜、及び多孔質膜の製造方法 | 2025年 3月14日 | |
特開 2025-34990 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸拡散制御剤 | 2025年 3月13日 | |
特開 2025-34991 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸拡散制御剤 | 2025年 3月13日 | |
特開 2025-32676 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、及び化合物 | 2025年 3月12日 | |
特開 2025-29870 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、及び化合物 | 2025年 3月 7日 | |
特開 2025-30082 | リードフィルム用接着剤、及び多孔性イミド系樹脂膜の製造方法 | 2025年 3月 7日 |
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2025-63109 2025-62194 2025-62325 2025-48682 2025-41249 2025-40235 2025-40236 2025-40413 2025-35905 2025-35906 2025-34990 2025-34991 2025-32676 2025-29870 2025-30082
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