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東京応化工業株式会社
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第226位 11件
（
2025年：第239位 141件）
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第276位 8件
（2025年：第361位 74件）
（ランキング更新日：2026年1月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2026-5619 | 下地材、及び相分離構造を含む構造体の製造方法 | 2026年 1月16日 | |
| 特開 2026-5620 | 組成物、及び重合体 | 2026年 1月16日 | |
| 特開 2026-5977 | 感光性組成物、及びパターン化されたケイ素含有樹脂膜の製造方法 | 2026年 1月16日 | |
| 特開 2026-6058 | 感光性組成物、パターン化されたケイ素含有樹脂膜の形成方法、及びケイ素含有樹脂 | 2026年 1月16日 | |
| 特開 2026-6081 | 多孔質膜、レジスト組成物の精製方法、及びレジスト膜の製造方法 | 2026年 1月16日 | |
| 特開 2026-6789 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、含フッ素高分子化合物、及び化合物 | 2026年 1月16日 | |
| 特開 2026-6875 | ネガ型感光性接着剤組成物、感光性接着剤ドライフィルム、パターン形成方法、及び積層体の製造方法 | 2026年 1月16日 | |
| 特開 2026-5100 | ネガ型感光性組成物、及びパターン化された硬化膜の製造方法 | 2026年 1月15日 | |
| 特開 2026-5192 | 感光性組成物、及びパターン化された硬化膜の製造方法 | 2026年 1月15日 | |
| 特開 2026-536 | プライマー組成物、積層体、及び積層体の製造方法 | 2026年 1月 6日 | |
| 特開 2026-757 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸発生剤 | 2026年 1月 6日 |
11 件中 1-11 件を表示
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2026-5619 2026-5620 2026-5977 2026-6058 2026-6081 2026-6789 2026-6875 2026-5100 2026-5192 2026-536 2026-757
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