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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第307位 125件
(2020年:第332位 110件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第260位 110件
(2020年:第264位 105件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2021-195394 | 光硬化性組成物及びパターン形成方法 | 2021年12月27日 | |
特開 2021-195490 | ポリオルガノシロキサン組成物、硬化物、及び硬化物の製造方法 | 2021年12月27日 | |
特開 2021-196578 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2021年12月27日 | |
特開 2021-197379 | 光硬化性組成物及びパターン形成方法 | 2021年12月27日 | |
特開 2021-197506 | 半導体基板のエッチング方法及びエッチング液 | 2021年12月27日 | |
特開 2021-192074 | ハードマスク形成用組成物及び電子部品の製造方法 | 2021年12月16日 | |
特開 2021-192405 | 基板検出装置、基板検出方法、及び基板処理ユニット | 2021年12月16日 | |
再表 2020-162177 | 被認証物、認証システム、及び認証用媒体の生成方法 | 2021年12月 2日 | |
特開 2021-181053 | ノズル、塗布装置および調整機構 | 2021年11月25日 | |
特開 2021-181552 | ワニス組成物、ポリイミド多孔質膜の前駆膜の製造方法、及びポリイミド多孔質膜の製造方法 | 2021年11月25日 | |
特開 2021-182041 | ポジ型感光性樹脂組成物、パターニングされたレジスト膜の形成方法、及びパターニングされたレジスト膜 | 2021年11月25日 | |
特開 2021-182042 | 化学増幅型感光性組成物、感光性ドライフィルム、パターン化されたレジスト膜の製造方法、めっき造形物の製造方法、化合物、及び化合物の製造方法 | 2021年11月25日 | |
特開 2021-176020 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2021年11月 4日 | |
特開 2021-167396 | 積層体の製造方法、マイクロレンズの製造方法、CMOSイメージセンサーの製造方法、及び硬化性組成物 | 2021年10月21日 | |
特開 2021-167904 | 感光性組成物、硬化物、硬化物の製造方法及び光重合性組成物 | 2021年10月21日 |
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2021-195394 2021-195490 2021-196578 2021-197379 2021-197506 2021-192074 2021-192405 2020-162177 2021-181053 2021-181552 2021-182041 2021-182042 2021-176020 2021-167396 2021-167904
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3月26日(水) - 東京 港区
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4月1日(火) - 山口 山口市
4月1日(火) -
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