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東京応化工業株式会社

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　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第260位　110件（2020年：第264位　105件）

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東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2021-197506	半導体基板のエッチング方法及びエッチング液	2021年12月27日
特開 2021-197379	光硬化性組成物及びパターン形成方法	2021年12月27日
特開 2021-196578	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2021年12月27日
特開 2021-195490	ポリオルガノシロキサン組成物、硬化物、及び硬化物の製造方法	2021年12月27日
特開 2021-195394	光硬化性組成物及びパターン形成方法	2021年12月27日
特開 2021-192074	ハードマスク形成用組成物及び電子部品の製造方法	2021年12月16日
特開 2021-192405	基板検出装置、基板検出方法、及び基板処理ユニット	2021年12月16日
再表 2020-162177	被認証物、認証システム、及び認証用媒体の生成方法	2021年12月 2日
特開 2021-182042	化学増幅型感光性組成物、感光性ドライフィルム、パターン化されたレジスト膜の製造方法、めっき造形物の製造方法、化合物、及び化合物の製造方法	2021年11月25日
特開 2021-182041	ポジ型感光性樹脂組成物、パターニングされたレジスト膜の形成方法、及びパターニングされたレジスト膜	2021年11月25日
特開 2021-181552	ワニス組成物、ポリイミド多孔質膜の前駆膜の製造方法、及びポリイミド多孔質膜の製造方法	2021年11月25日
特開 2021-181053	ノズル、塗布装置および調整機構	2021年11月25日
特開 2021-176020	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2021年11月 4日
特開 2021-167396	積層体の製造方法、マイクロレンズの製造方法、ＣＭＯＳイメージセンサーの製造方法、及び硬化性組成物	2021年10月21日
特開 2021-167904	感光性組成物、硬化物、硬化物の製造方法及び光重合性組成物	2021年10月21日

121 件中 1-15 件を表示

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2021-197506 2021-197379 2021-196578 2021-195490 2021-195394 2021-192074 2021-192405 2020-162177 2021-182042 2021-182041 2021-181552 2021-181053 2021-176020 2021-167396 2021-167904

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