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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第337位 116件
(2018年:第287位 137件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第234位 117件
(2018年:第245位 119件)
(ランキング更新日:2025年3月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2019-219469 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物及び化合物 | 2019年12月26日 | |
特開 2019-219470 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2019年12月26日 | |
特開 2019-213566 | 構造体の製造方法 | 2019年12月19日 | |
特開 2019-212914 | 基板の処理方法及びリンス液 | 2019年12月12日 | |
特開 2019-207295 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸発生剤 | 2019年12月 5日 | |
特開 2019-207296 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸発生剤 | 2019年12月 5日 | |
特開 2019-207297 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2019年12月 5日 | |
特開 2019-207298 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2019年12月 5日 | |
特開 2019-207299 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2019年12月 5日 | |
特開 2019-207300 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2019年12月 5日 | |
特開 2019-207301 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2019年12月 5日 | |
特開 2019-207404 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤及び化合物の製造方法 | 2019年12月 5日 | |
特開 2019-207406 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2019年12月 5日 | |
特開 2019-207407 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2019年12月 5日 | |
特開 2019-207408 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸発生剤 | 2019年12月 5日 |
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2019-219469 2019-219470 2019-213566 2019-212914 2019-207295 2019-207296 2019-207297 2019-207298 2019-207299 2019-207300 2019-207301 2019-207404 2019-207406 2019-207407 2019-207408
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3月21日(金) -
3月21日(金) -
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3月21日(金) -
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3月25日(火) -
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3月26日(水) -
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3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月24日(月) -
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