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東京応化工業株式会社

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  2019年 出願公開件数ランキング    第337位 116件 下降2018年:第287位 137件)

  2019年 特許取得件数ランキング    第234位 117件 上昇2018年:第245位 119件)

(ランキング更新日:2025年3月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2019-219469 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物及び化合物 2019年12月26日
特開 2019-219470 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 2019年12月26日
特開 2019-213566 構造体の製造方法 2019年12月19日
特開 2019-212914 基板の処理方法及びリンス液 2019年12月12日
特開 2019-207295 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸発生剤 2019年12月 5日
特開 2019-207296 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸発生剤 2019年12月 5日
特開 2019-207297 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 2019年12月 5日
特開 2019-207298 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 2019年12月 5日
特開 2019-207299 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 2019年12月 5日
特開 2019-207300 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 2019年12月 5日
特開 2019-207301 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 2019年12月 5日
特開 2019-207404 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤及び化合物の製造方法 2019年12月 5日
特開 2019-207406 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 2019年12月 5日
特開 2019-207407 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 2019年12月 5日
特開 2019-207408 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸発生剤 2019年12月 5日

120 件中 1-15 件を表示

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2019-219469 2019-219470 2019-213566 2019-212914 2019-207295 2019-207296 2019-207297 2019-207298 2019-207299 2019-207300 2019-207301 2019-207404 2019-207406 2019-207407 2019-207408

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