ホーム > 特許ランキング > 東京応化工業株式会社 > 2020年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(東京応化工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2020年 出願公開件数ランキング 第332位 110件 (2019年:第337位 116件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第264位 105件 (2019年:第234位 117件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
再表 2019-39242 | 気体分離方法、及び気体分離膜 | 2020年12月24日 | |
特開 2020-203283 | 多孔質膜及びその製造方法 | 2020年12月24日 | |
特開 2020-196013 | 液体の精製方法、薬液又は洗浄液の製造方法、フィルターメディア、及び、フィルターデバイス | 2020年12月10日 | |
特開 2020-197718 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物 | 2020年12月10日 | |
特開 2020-192488 | 被膜の形成方法 | 2020年12月 3日 | |
特開 2020-193272 | ポリイミド前駆体組成物、及びポリイミド膜の製造方法 | 2020年12月 3日 | |
特開 2020-194827 | 拡散剤組成物、及び半導体基板の製造方法 | 2020年12月 3日 | |
特開 2020-189930 | 相分離構造形成用樹脂組成物、相分離構造を含む構造体の製造方法、及びブロックコポリマー | 2020年11月26日 | |
特開 2020-189973 | 含ケイ素ポリマー、膜形成用組成物、含ケイ素ポリマー被膜の形成方法、シリカ系被膜の形成方法、及び含ケイ素ポリマーの製造方法 | 2020年11月26日 | |
特開 2020-191429 | 基板洗浄方法、基板洗浄装置及び基板洗浄用キット | 2020年11月26日 | |
特開 2020-185526 | 塗布装置及び塗布方法 | 2020年11月19日 | |
特開 2020-185527 | シム、ノズルおよび塗布装置 | 2020年11月19日 | |
特開 2020-185550 | ノズル管理装置、ノズル管理方法、及び塗布装置 | 2020年11月19日 | |
特開 2020-185615 | 基板支持装置、基板処理装置、及び基板支持方法 | 2020年11月19日 | |
特開 2020-185700 | 流路デバイスの製造方法 | 2020年11月19日 |
113 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2019-39242 2020-203283 2020-196013 2020-197718 2020-192488 2020-193272 2020-194827 2020-189930 2020-189973 2020-191429 2020-185526 2020-185527 2020-185550 2020-185615 2020-185700
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京応化工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
〒102-0072 東京都千代田区飯田橋4-1-1 飯田橋ISビル8階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒248-0006 神奈川県鎌倉市小町2-11-14 山中MRビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒330-0846 埼玉県さいたま市大宮区大門町3-205 ABCビル401 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング