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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第928位 29件
(2017年:第2121位 11件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第899位 23件
(2017年:第2056位 8件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6298023 | 多孔質低誘電率膜上に細孔封止層を設けるための方法及び組成物 | 2018年 3月20日 | |
特許 6298118 | ディスプレイ・デバイスのためのバリア材料 | 2018年 3月20日 | |
特許 6290961 | シリコン含有膜堆積用の前駆体及びその製造及び使用方法 | 2018年 3月 7日 | |
特許 6276226 | 圧力スイング吸着による三フッ化窒素の精製 | 2018年 2月 7日 | |
特許 6276315 | 金属化合物が化学的に固定されたコロイド粒子、その製造方法及びその使用 | 2018年 2月 7日 | |
特許 6276360 | 酸化ケイ素薄膜の高温原子層堆積 | 2018年 2月 7日 | |
特許 6262702 | 酸化ケイ素薄膜の高温原子層堆積 | 2018年 1月17日 | |
特許 6258982 | 低ディッシング銅化学機械平坦化 | 2018年 1月10日 |
23 件中 16-23 件を表示
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6298023 6298118 6290961 6276226 6276315 6276360 6262702 6258982
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