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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第661位 43件
(2021年:第1583位 15件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第725位 34件
(2021年:第590位 38件)
(ランキング更新日:2025年5月8日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2022-33162 | 高成長速度ケイ素含有膜の前駆体としての官能化シクロシラザン | 2022年 2月28日 | |
特開 2022-31272 | タングステン化学機械研磨組成物 | 2022年 2月18日 | |
特開 2022-31313 | 炭素ドープケイ素含有膜のための組成物及びそれを使用する方法 | 2022年 2月18日 | |
特開 2022-23872 | ビス(ジアザジエン)コバルト化合物、その製造方法及び使用方法 | 2022年 2月 8日 | |
特表 2022-509213 | 1-メチル-1-イソ-プロポキシ-シラシクロアルカン及びそれから製造される緻密有機シリカ膜 | 2022年 1月20日 | |
特開 2022-8961 | ケイ素及び窒素を含有する膜を製造する方法 | 2022年 1月14日 | |
特開 2022-8973 | 高い炭素含有量を有するケイ素含有膜の製造方法 | 2022年 1月14日 | |
特開 2022-9467 | ポスト化学機械平坦化(CMP)洗浄 | 2022年 1月14日 | |
特表 2022-504232 | ケイ素含有膜の高温原子層堆積 | 2022年 1月13日 | |
特表 2022-504248 | 高品質酸化ケイ素薄膜の高温原子層堆積のための組成物 | 2022年 1月13日 | |
特表 2022-504261 | ケイ素及び窒素を含有する膜を製造するための方法 | 2022年 1月13日 | |
特開 2022-2324 | タングステンワード線リセスのためのエッチング溶液 | 2022年 1月 6日 | |
特開 2022-913 | ケイ素含有膜の堆積のための組成物及びそれを使用した方法 | 2022年 1月 4日 |
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2022-33162 2022-31272 2022-31313 2022-23872 2022-509213 2022-8961 2022-8973 2022-9467 2022-504232 2022-504248 2022-504261 2022-2324 2022-913
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