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株式会社日立ハイテクノロジーズ

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　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第52位　689件（2010年：第70位　624件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第98位　350件（2010年：第95位　307件）

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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2011-192872	プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法	2011年 9月29日
特開 2011-192732	磁場界浸型電子銃及び電子線装置	2011年 9月29日
特開 2011-192519	イオン分子反応イオン化質量分析装置及び分析方法	2011年 9月29日
特開 2011-192368	ディスククランプ機構、磁気ヘッド及び磁気ディスク検査装置	2011年 9月29日
特開 2011-192327	磁気ヘッドローディング装置及び検査装置	2011年 9月29日
特開 2011-192867	プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のステージ温度制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法	2011年 9月29日
再表 2009-142087	自動分析装置	2011年 9月29日
再表 2009-141957	検体前処理システム	2011年 9月29日
特開 2011-192785	多結晶シリコン薄膜検査方法及びその装置	2011年 9月29日
特開 2011-192498	検査装置および検査方法	2011年 9月29日
特開 2011-192496	ＳＥＭ式欠陥観察装置および欠陥画像取得方法	2011年 9月29日
特開 2011-192649	プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置の制御方法	2011年 9月29日
特開 2011-192766	半導体ウェーハの外観検査方法及びその装置	2011年 9月29日
特開 2011-185900	検査方法およびその装置	2011年 9月22日
特開 2011-187192	電子顕微鏡画像と光学画像を重ねて表示する方法	2011年 9月22日

689 件中 151-165 件を表示

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2011-192872 2011-192732 2011-192519 2011-192368 2011-192327 2011-192867 2009-142087 2009-141957 2011-192785 2011-192498 2011-192496 2011-192649 2011-192766 2011-185900 2011-187192

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