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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第59位 716件
(2012年:第54位 709件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第51位 717件
(2012年:第71位 547件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2013-187510 | 半導体検査装置および半導体検査方法 | 2013年 9月19日 | |
特開 2013-186275 | 露光装置、及び露光装置のプリアライメント方法 | 2013年 9月19日 | |
特開 2013-185972 | 液体クロマトグラフ及び分析方法 | 2013年 9月19日 | |
特開 2013-185918 | プラズマ分光分析装置 | 2013年 9月19日 | |
特開 2013-185912 | 自動分析装置 | 2013年 9月19日 | |
特開 2013-182760 | 荷電粒子線装置 | 2013年 9月12日 | |
特開 2013-182792 | 荷電粒子線装置 | 2013年 9月12日 | |
特開 2013-182966 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2013年 9月12日 | |
特開 2013-181910 | 質量分析システム | 2013年 9月12日 | 共同出願 |
特開 2013-181903 | 分析装置および分析方法 | 2013年 9月12日 | |
特開 2013-181931 | 温度計測装置 | 2013年 9月12日 | |
再表 2012-14828 | イオントラップ質量分析装置および質量分析方法 | 2013年 9月12日 | |
特開 2013-182996 | ドライエッチング装置及びドライエッチング方法 | 2013年 9月12日 | |
再表 2012-14870 | 収差補正装置およびそれを用いた荷電粒子線装置 | 2013年 9月12日 | |
特開 2013-179105 | 半導体評価装置、及びコンピュータープログラム | 2013年 9月 9日 |
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2013-187510 2013-186275 2013-185972 2013-185918 2013-185912 2013-182760 2013-182792 2013-182966 2013-181910 2013-181903 2013-181931 2012-14828 2013-182996 2012-14870 2013-179105
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5月28日(水) - 東京 港区
5月28日(水) - 東京 千代田区
5月28日(水) - 東京 中央区
5月28日(水) -
5月28日(水) -
5月29日(木) - 東京 港区
5月29日(木) - 東京 品川区
5月29日(木) - 東京 新宿区
5月29日(木) -
5月29日(木) -
5月30日(金) -
5月30日(金) -
5月28日(水) - 東京 港区
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月5日(木) -
6月6日(金) -
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