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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第59位 659件
（
2013年：第59位 716件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第54位 625件
（
2013年：第51位 717件）
（ランキング更新日：2025年5月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5544176 | 検査装置および検査方法 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5542749 | 試料の作製装置，作製方法、及びそれを用いた荷電粒子線装置 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5542650 | 校正用標準部材およびその作製方法並びにそれを用いた走査電子顕微鏡 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5537282 | 欠陥検査装置および欠陥検査方法 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5537058 | 試料作製装置、及び試料作製装置における制御方法 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5536727 | 分注方法及び分注装置 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5535047 | 自動分析装置 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5537466 | 露光装置 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5537063 | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のギャップ制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5537386 | 荷電粒子線装置 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5537050 | 集束イオンビーム装置 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5537737 | 荷電粒子線装置 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5537653 | イオンビーム装置およびイオンビーム加工方法 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5537488 | 荷電粒子顕微鏡装置および画像撮像方法 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5537460 | 荷電粒子線顕微鏡及びそれを用いた計測画像の補正方法 | 2014年 7月 2日 |
625 件中 196-210 件を表示
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5544176 5542749 5542650 5537282 5537058 5536727 5535047 5537466 5537063 5537386 5537050 5537737 5537653 5537488 5537460
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