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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第59位 659件
（
2013年：第59位 716件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第54位 625件
（
2013年：第51位 717件）
（ランキング更新日：2025年6月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5639925 | パターンマッチング装置、及びコンピュータープログラム | 2014年12月10日 | |
| 特許 5637953 | 核酸分析用反応デバイス | 2014年12月10日 | |
| 特許 5640135 | プラズマ処理装置 | 2014年12月10日 | |
| 特許 5638098 | 検査装置、及び検査条件取得方法 | 2014年12月10日 | |
| 特許 5638070 | 走査型電子顕微鏡 | 2014年12月10日 | |
| 特許 5636315 | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | 2014年12月 3日 | |
| 特許 5635130 | 単分子プローブ核酸付き微粒子及びその製造方法、並びに核酸分析方法 | 2014年12月 3日 | |
| 特許 5636053 | ガス電界電離イオン源及びその使用方法、並びに、イオンビーム装置 | 2014年12月 3日 | |
| 特許 5636442 | 自動分析装置 | 2014年12月 3日 | 共同出願 |
| 特許 5632316 | 質量分析装置及びそれに用いられるイオン源 | 2014年11月26日 | |
| 特許 5631642 | 車両寸法測定方法及び装置 | 2014年11月26日 | |
| 特許 5632186 | 稠密スロット透過型電極体を用いたプラズマ処理装置 | 2014年11月26日 | |
| 特許 5629782 | 検査装置 | 2014年11月26日 | |
| 特許 5628010 | 欠陥検査装置、判定条件構築装置及び欠陥検査方法 | 2014年11月19日 | |
| 特許 5628862 | イオンビーム加工装置 | 2014年11月19日 |
625 件中 16-30 件を表示
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5639925 5637953 5640135 5638098 5638070 5636315 5635130 5636053 5636442 5632316 5631642 5632186 5629782 5628010 5628862
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